カテゴリ： Grand View Research, 世界, 部品/材料

世界の極端紫外線リソグラフィ市場（2024年~2030年）：機器別（光源、光学機器、マスク）、エンドユーザー別（集積回路製造業者、ファウンドリ）、地域別

■ 英語タイトル：Extreme Ultraviolet Lithography Market Size, Share & Trends Analysis Report By Equipment (Light Source, Optics, Mask), By End Use (Integrated Device Manufacturer, Foundries), By Region, And Segment Forecasts, 2024 - 2030
	■ 発行会社/調査会社：Grand View Research ■ 商品コード：GRV24OCT015 ■ 発行日：2024年8月最新版(2025年又は2026年)はお問い合わせください。 ■ 調査対象地域：グローバル ■ 産業分野：先進内装材 ■ ページ数：152 ■ レポート言語：英語 ■ レポート形式：PDF ■ 納品方式：Eメール（受注後4営業日）

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*** レポート概要（サマリー）***

市場規模と動向
極端紫外線リソグラフィの世界市場規模は、2023年に94.2億米ドルと推定され、2024年から2030年にかけて年平均成長率17.3％で成長すると予測されています。極端紫外線リソグラフィ市場は、半導体デバイスの小型化・高効率化に対する需要の高まりに牽引され、力強い成長を遂げています。電子機器の小型化が進むと同時に、消費電力と効率も向上しているため、メーカーは次世代の半導体を製造するための重要な技術として極端紫外線（EUV）リソグラフィに注目しています。この傾向は、主に、家電、自動車、高性能コンピューティングなどの分野における継続的な進歩に後押しされています。

極端紫外線リソグラフィは、シリコンウェーハ上に非常に複雑なパターンを形成する半導体製造プロセスで使用される最先端技術です。この技術は、極端紫外線領域の極めて短い波長の光を用いて、これまでにない解像度と精度を実現するもので、半導体デバイスの小型化、高速化、高効率化を可能にします。極端紫外線リソグラフィは、従来のリソグラフィ技術を大きく進化させるものであり、スマートフォンやコンピュータから高度なAIや5Gネットワークに至るまで、様々なハイテクアプリケーションに必要とされる次世代のマイクロチップへの扉を開くものです。

極端紫外線リソグラフィ市場の成長に寄与するもう一つの要因は、半導体業界自体の技術革新と技術進歩のペースが速いことです。チップメーカーが可能性の限界に挑戦し続ける中、極端紫外線リソグラフィは、その比類ない精度と拡張性により、これらの進歩を実現するための重要なツールとして際立っています。

世界の極端紫外線リソグラフィ市場のレポート区分

本レポートでは、2018年から2030年にかけての世界、地域、国レベルでの収益成長を予測し、各サブセグメントにおける業界動向に関する分析を提供しています。この調査において、Grand View Research社は、世界の極端紫外線リソグラフィ市場レポートを装置、最終用途、地域に基づいてセグメント化しています：

– 装置の展望（売上高、百万米ドル、2018年～2030年）
– 光源
– 光学系
– マスク
– その他
– 最終用途の展望（売上高、百万米ドル、2018年～2030年）
– 集積デバイスメーカー（IDM）
– ファウンドリ
– 地域別展望（売上高、百万米ドル、2018年～2030年）
– 北米
o 米国
o カナダ
o メキシコ
– 欧州
o イギリス
ドイツ
フランス
o イタリア
o スペイン
– アジア太平洋
o 日本
o 中国
o インド
o 台湾
o 韓国
– ラテンアメリカ
o ブラジル
o アルゼンチン
– 中東・アフリカ
o 南アフリカ
o サウジアラビア
o アラブ首長国連邦

*** レポート目次（コンテンツ）***

第1章. 方法論と範囲
1.1. 市場セグメンテーションとスコープ
1.2. 市場の定義
1.3. 調査方法
1.4. 情報収集
1.4.1. 購入データベース
1.4.2. GVRの内部データベース
1.4.3. 二次情報源
1.4.4. 第三者の視点
1.4.5. 情報分析
1.5. 情報分析
1.5.1. データ分析モデル
1.5.2. 市場形成とデータの可視化
1.5.3. データの検証・公開
1.6. 調査範囲と前提条件
1.6.1. データソース一覧
第2章. エグゼクティブ・サマリー
2.1. 市場の展望
2.2. セグメントの展望
2.3. 競合他社の洞察
第3章. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の変数、動向、スコープ
3.1. 市場の系統展望
3.2. 市場集中度と普及率の展望
3.3. 産業バリューチェーン分析
3.4. 技術概要
3.5. 規制の枠組み
3.6. 市場ダイナミクス
3.6.1. 市場促進要因分析
3.6.2. 市場阻害要因分析
3.6.3. 市場機会分析
3.6.4. 市場の課題分析
3.7. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場分析ツール
3.7.1. ポーター分析
3.7.1.1. サプライヤーの交渉力
3.7.1.2. 買い手の交渉力
3.7.1.3. 代替の脅威
3.7.1.4. 新規参入による脅威
3.7.1.5. 競争上のライバル
3.7.2. PESTEL分析
3.7.2.1. 政治情勢
3.7.2.2. 経済・社会情勢
3.7.2.3. 技術的ランドスケープ
3.7.2.4. 環境景観
3.7.2.5. 法的景観
3.8. 経済メガトレンド分析
第4章. 極端紫外線（EUV）リソグラフィー市場：装置の推定と動向分析
4.1. セグメントダッシュボード
4.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場：装置動向分析、USD Million、2023年および2030年
4.3. 光源
4.3.1. 市場推定と予測、2018年〜2030年 (百万米ドル)
4.4. 光学部品
4.4.1. 市場の推定と予測、2018～2030年（百万米ドル）
4.5. マスク
4.5.1. 市場の推定と予測、2018〜2030年（USD Million）
4.6. その他
4.6.1. 市場の推定と予測、2018年～2030年（百万米ドル）
第5章. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場：最終用途の推定と動向分析
5.1. セグメントダッシュボード
5.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場：最終用途の動向分析、百万米ドル、2023年および2030年
5.3. 集積デバイスメーカー（IDM）
5.3.1. 市場の推定と予測、2018年〜2030年 (百万米ドル)
5.4. ファウンドリ
5.4.1. 市場の推定と予測、2018～2030年（百万米ドル）
第6章. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場：地域別推定と動向分析
6.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場シェア：地域別、2023年・2030年（百万米ドル
6.2. 北米
6.2.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年〜2030年（百万米ドル）
6.2.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年（USD Million）
6.2.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
6.2.4. 米国
6.2.4.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年～2030年（百万米ドル）
6.2.4.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年 (百万米ドル)
6.2.4.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
6.2.5. カナダ
6.2.5.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年～2030年（USD Million）
6.2.5.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年 (百万米ドル)
6.2.5.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
6.2.6. メキシコ
6.2.6.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年～2030年 (百万米ドル)
6.2.6.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年 (百万米ドル)
6.2.6.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
6.3. 欧州
6.3.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年～2030年（USD Million）
6.3.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年〜2030年（USD Million）
6.3.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年（USD Million）
6.3.4. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
6.3.5. 英国
6.3.5.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年～2030年（USD Million）
6.3.5.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年 (百万米ドル)
6.3.5.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
6.3.6. ドイツ
6.3.6.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年〜2030年（USD Million）
6.3.6.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年 (百万米ドル)
6.3.6.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
6.3.7. フランス
6.3.7.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年～2030年（USD Million）
6.3.7.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年 (百万米ドル)
6.3.7.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
6.3.8. イタリア
6.3.8.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年～2030年（USD Million）
6.3.8.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年 (百万米ドル)
6.3.8.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
6.3.9. スペイン
6.3.9.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年～2030年（USD Million）
6.3.9.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年 (百万米ドル)
6.3.9.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
6.4. アジア太平洋
6.4.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年～2030年（USD Million）
6.4.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年～2030年（USD Million）
6.4.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年（USD Million）
6.4.4. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
6.4.5. 中国
6.4.5.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年〜2030年（USD Million）
6.4.5.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年 (百万米ドル)
6.4.5.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
6.4.6. インド
6.4.6.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年～2030年（USD Million）
6.4.6.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年 (百万米ドル)
6.4.6.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
6.4.7. 日本
6.4.7.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年〜2030年（USD Million）
6.4.7.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年 (百万米ドル)
6.4.7.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
6.4.8. 韓国
6.4.8.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年～2030年（USD Million）
6.4.8.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年 (USD Million)
6.4.8.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
6.4.9. 台湾
6.4.9.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年〜2030年（USD Million）
6.4.9.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年 (USD Million)
6.4.9.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
6.5. 中南米
6.5.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年～2030年（USD Million）
6.5.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年 (百万米ドル)
6.5.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
6.5.4. ブラジル
6.5.4.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年～2030年（USD Million）
6.5.4.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年 (百万米ドル)
6.5.4.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
6.5.5. アルゼンチン
6.5.5.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年～2030年 (百万米ドル)
6.5.5.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年 (百万米ドル)
6.5.5.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
6.6. 中東・アフリカ
6.6.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年～2030年（USD Million）
6.6.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年 (百万米ドル)
6.6.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
6.6.4. 南アフリカ
6.6.4.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年～2030年 (百万米ドル)
6.6.4.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年 (百万米ドル)
6.6.4.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
6.6.5. サウジアラビア
6.6.5.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年～2030年 (百万米ドル)
6.6.5.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年 (百万米ドル)
6.6.5.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
6.6.6. アラブ首長国連邦
6.6.6.1. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の推定と予測、2018年～2030年 (百万米ドル)
6.6.6.2. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場の装置別推定と予測、2018年〜2030年 (百万米ドル)
6.6.6.3. 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場のエンドユース別推定と予測：2018年〜2030年（USD Million）
第7章. 競争環境
7.1. 主要市場参入企業の最新動向と影響分析
7.2. 企業の分類
7.3. 企業の市場ポジショニング
7.4. 各社の市場シェア分析（2023年
7.5. 企業ヒートマップ分析、2023年
7.6. 戦略マッピング
7.7. 企業プロファイル
ASML Holding NV
NTT Advanced Technology Corporation
Canon Inc
Nikon Corporation
Intel Corporation
Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited
Samsung Electronics Co. Ltd
Toppan Photomasks Inc
ZEISS Group
Ushio, Inc.

※参考情報

極端紫外線リソグラフィ（EUVリソグラフィ）は、半導体製造において極めて重要な技術であり、次世代の集積回路（IC）の製造プロセスで使用されます。この技術は、波長が約13.5ナノメートルの極端紫外線（EUV）光を利用して、微細なパターンをシリコン基板上に転写する方法です。従来の可視光リソグラフィや深紫外線（DUV）リソグラフィと比べて、EUVリソグラフィはより小さなパターンを高精度で描くことができるため、微細化が進む半導体産業で特に注目されています。
EUVリソグラフィには、大きく分けて2つの種類があります。1つは、露光装置のタイプで、他のリソグラフィ技術と同様に、シリコン基板上にフォトレジストと呼ばれる感光性材料を塗布し、EUV光を照射してパターンを形成する方法です。もう1つは、マスク技術です。EUVリソグラフィでは、専用のマスクを用意し、これにEUV光を通すことで基板上に微細なパターンを転写します。このマスクは非常に高精度に作成される必要があり、製造プロセスや材料が厳密に管理されています。

EUVリソグラフィの用途は主に、半導体業界におけるICチップの製造です。最近のコンピュータ技術の進化により、トランジスタの微細化が進み、従来のリソグラフィ技術では限界が生じています。EUVリソグラフィを利用することで、より小型のトランジスタを作成でき、その結果として、コンピュータやスマートフォン、IoTデバイスなどに必要な高性能・高効率なチップを製造できます。また、EUVリソグラフィは、5nmプロセスルールやそれ以下の微細化を実現するために欠かせない技術とされています。

EUVリソグラフィの関連技術としては、光源技術やマスク製造技術があります。EUV光を生成するためのレーザーを用いたプラズマ生成技術は非常に重要で、現時点ではの成功事例として、アメリカのASML社が開発したEUV露光装置が挙げられます。また、EUVリソグラフィ用の高品質なマスクを作成するためには、多層膜技術が必要です。この技術では、反射率を高めるために、異なる材料を交互に積層し、EUV光を効率的に使用できるように設計されています。

EUVリソグラフィの導入は、製造コストや技術的な挑戦といった課題があります。EUV露光装置は非常に高価で、製造に必要な施設や技術も高度であるため、導入には大規模な投資が必要です。また、プロセスの安定性や歩留まりを維持するための研究開発が欠かせません。しかし、半導体市場の競争が激化する中で、EUVリソグラフィは高密度化、低消費電力化、高性能化を実現するための鍵を握る技術とされています。

今後の展望として、EUVリソグラフィはさらなる進化を遂げるでしょう。新しい材料やプロセス技術の開発、単層または多層リソグラフィ技術との組み合わせ、さらには次世代のEUV光源の研究など、多岐にわたる研究が進行中です。また、EUV技術を活用した次世代の半導体デバイスや、これに適応した新しい多層設計の開発も期待されています。

このように、極端紫外線リソグラフィは、今後の半導体製造においてますます重要となる技術であり、その進化は私たちのデジタル生活に直接的な影響を与えることでしょう。技術の進展に伴い、より小型で高性能なデバイスが実現され、私たちの生活をさらに便利で快適にする未来が期待されます。

*** 極端紫外線リソグラフィの世界市場に関するよくある質問(FAQ) ***

・極端紫外線リソグラフィの世界市場規模は？
→Grand View Research社は2023年の極端紫外線リソグラフィの世界市場規模を94.2億米ドルと推定しています。

・極端紫外線リソグラフィの世界市場予測は？
→Grand View Research社は2030年の極端紫外線リソグラフィの世界市場規模をXX億米ドルと予測しています。

・極端紫外線リソグラフィ市場の成長率は？
→Grand View Research社は極端紫外線リソグラフィの世界市場が2024年～2030年に年平均17.3%成長すると展望しています。

・世界の極端紫外線リソグラフィ市場における主要プレイヤーは？
→「ASML Holding NV、NTT Advanced Technology Corporation、Canon Inc、Nikon Corporation、Intel Corporation、Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited、Samsung Electronics Co. Ltd、Toppan Photomasks Inc、ZEISS Group、Ushio, Inc.など ...」を極端紫外線リソグラフィ市場のグローバル主要プレイヤーとして判断しています。

※上記FAQの市場規模、市場予測、成長率、主要企業に関する情報は本レポートの概要を作成した時点での情報であり、最終レポートの情報と少し異なる場合があります。

*** 免責事項 ***
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世界の極端紫外線リソグラフィ市場（2024年~2030年）：機器別（光源、光学機器、マスク）、エンドユーザー別（集積回路製造業者、ファウンドリ）、地域別

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