リソグラフィ装置の世界市場2023~2028:産業動向、シェア、規模、成長、機会・予測

■ 英語タイトル:Lithography Systems Market: Global Industry Trends, Share, Size, Growth, Opportunity and Forecast 2023-2028

調査会社IMARC社が発行したリサーチレポート(データ管理コード:IMARC23JUL0189)■ 発行会社/調査会社:IMARC
■ 商品コード:IMARC23JUL0189
■ 発行日:2023年6月
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■ 調査対象地域:グローバル
■ 産業分野:IT
■ ページ数:138
■ レポート言語:英語
■ レポート形式:PDF
■ 納品方式:Eメール
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*** レポート概要(サマリー)***

アイマーク社の市場調査レポートでは、2022年に95億ドルであった世界のリソグラフィ装置市場規模が、2023年から2028年の間にCAGR 4.7%拡大し、2028年には125億ドルまで成長すると予想されています。当レポートでは、リソグラフィ装置の世界市場を調査・分析し、市場の動向や見通しを明らかにしています。詳しい項目としては、序論、範囲・調査手法、エグゼクティブサマリー、イントロダクション、市場概要、技術別(ArF液浸、KrF、i-ライン、ArF乾式、EUV)分析、用途別(ファウンドリー、メモリー、統合デバイス)分析、地域別(アジア太平洋、北米、ヨーロッパ、中東・アフリカ、中南米)分析、製造工程、競争状況などをまとめています。並びに、当レポートには、ASML Holding、Canon、Nikon、Nuflare Technology、Inc.、Ev Group、Veeco Instrumentsなどの企業情報が含まれています。
・序論
・範囲・調査手法
・エグゼクティブサマリー
・イントロダクション
・市場概要
・世界のリソグラフィ装置市場規模:技術別
- ArF液浸におけるの市場規模
- KrFにおけるの市場規模
- i-ラインにおけるの市場規模
- ArFドライにおけるの市場規模
- EUにおけるの市場規模
・世界のリソグラフィ装置市場規模:用途別
- ファウンドリーにおける市場規模
- メモリーにおける市場規模
- 統合デバイスにおける市場規模
・世界のリソグラフィ装置市場規模:地域別
- アジア太平洋のリソグラフィ装置市場規模
- 北米のリソグラフィ装置市場規模
- ヨーロッパのリソグラフィ装置市場規模
- 中東・アフリカのリソグラフィ装置市場規模
- 中南米のリソグラフィ装置市場規模
・製造工程
・競争状況

市場概要

世界のリソグラフィ装置市場規模は、2022年に95億米ドルに達しました。今後、IMARC Groupは、2023年から2028年にかけて4.7%の成長率(CAGR)を示し、2028年までに125億米ドルに達すると予測しています。

リソグラフィは、グリースと水の不混和性に基づく印刷プロセスです。このプロセスの始まりは、Alois Senefelderによって発明された1700年代後半にまで遡ることができます。それ以前は、芸術家が版画を制作するためにのみ使用されていたが、時が経つにつれ、半導体リソグラフィを含む幅広い技術へと発展しました。リソグラフィ装置は現在、平面の大部分または薄膜のさまざまな部分を微細加工するために使用されています。これらのシステムは、比較的低コストで最適な画質で幅広い表面に印刷するのに有益です。このため、適切な材料にアートワークやテキストを印刷したり、半導体パターンや結晶を作成したりする目的でリソグラフィ装置の使用が増加しており、これらは集積回路の形でさらに利用されています。

リソグラフィ装置の世界市場の促進要因/制約要因:

過去数年間、リソグラフィ装置の分野では数多くの技術的進歩がありました。これにより、青色波長から193ナノメートルの高解像度波長まで、さまざまな波長に対応できるようになりました。
現在、リソグラフィ装置は、特に集積回路(IC)のいくつかのコンポーネントの寸法、位置、形状を確立するために、半導体産業で人気を集めています。これらの回路は、通信機器、家電製品、センサーなどでますます使用されるようになっており、その結果、世界中でリソグラフィ装置の需要が増加しています。
メーカー各社は、機能当たりのコストを抑えた多種多様な超高精度半導体フォトリソグラフィツールを開発するため、研究開発活動に巨額の投資を行っています。そのため、市場の成長にプラスの影響を与えています。
しかし、最新のマイクロ回路の製造に使用されるEUVリソグラフィ装置の開発に関して、生産者が直面している技術的な課題がある。これは、世界のリソグラフィ装置市場の成長を妨げる障害となっています。

主要市場のセグメンテーション:

IMARC Groupは、世界のリソグラフィ装置市場レポートの各サブセグメントにおける主要動向の分析を、2023年から2028年までの世界および地域レベルでの予測とともに提供しています。当レポートでは、市場を技術と用途に基づいて分類しています。

技術別内訳:

ArF液浸
KrF
i線
ArFドライ
EUV

リソグラフィ装置は、ArF液浸、KrF、i線、ArFドライ、EUVなどの技術別にセグメント化されています。現在、ArF液浸は、重要な寸法の均一性を向上させるため、最大の市場シェアで明確な優位性を示している。

アプリケーション別内訳:

ファウンドリー
メモリ
集積デバイス

アプリケーション別では、ファウンドリー、メモリー、集積デバイスに分類されます。このうち、ファウンドリーは、リソグラフィ装置が使用されている最も一般的なアプリケーションです。

地域別インサイト:

アジア太平洋
北米
欧州
中東・アフリカ
ラテンアメリカ

地域別では、アジア太平洋地域が依然として主要市場であり、世界シェアの大半を占めています。これは、この地域に多数の半導体ICメーカーが存在するためで、その他の主要地域には、北米、欧州、中東・アフリカ、中南米が含まれます。

競争環境:

世界のリソグラフィ装置市場は、価格と品質で競争する少数のメーカーに集中しています。同市場で事業を展開している上位企業には、以下のような企業があります:

ASML Holding
Canon
Nikon
Nuflare Technology, Inc.
Ev Group
Veeco Instruments
SUSS MicroTec

本調査レポートは、世界のリソグラフィ装置市場について、その重要な側面をすべて網羅した深い洞察を提供しています。その範囲は、市場のマクロ的な概要から、業界実績のミクロ的な詳細、最近の動向、主要な市場促進要因と課題、SWOT分析、ポーターの5つの力分析、バリューチェーン分析など多岐にわたります。本レポートは、起業家、投資家、研究者、コンサルタント、ビジネス戦略家、および何らかの形でリソグラフィ装置市場に参入する、または参入を計画しているすべての人々にとって必読の書です。

本レポートで扱う主な質問:

リソグラフィ装置の世界市場はこれまでどのように推移してきたか?
リソグラフィ装置の世界市場における主要地域は?
COVID-19がリソグラフィ装置の世界市場に与えた影響は?
リソグラフィ装置の世界市場で人気のある技術は?
リソグラフィ装置の世界市場における主な用途分野は?
リソグラフィ装置の世界市場のバリューチェーンにおける様々な段階とは?
リソグラフィ装置の世界市場における主要な推進要因と課題は?
リソグラフィ装置の世界市場の構造と主要プレイヤーは?
リソグラフィ装置の世界市場における競争の度合いは?
リソグラフィ装置はどのように製造されているのか?

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*** レポート目次(コンテンツ)***

1 序文

2 調査範囲と方法論

2.1 調査の目的

2.2 ステークホルダー

2.3 データソース

2.3.1 一次情報源

2.3.2 二次情報源

2.4 市場推計

2.4.1 ボトムアップアプローチ

2.4.2 トップダウンアプローチ

2.5 予測方法論

3 エグゼクティブサマリー

4 はじめに

4.1 概要

4.2 主要な業界動向

5 世界のリソグラフィーシステム市場

5.1 市場概要

5.2 市場動向

5.3 COVID-19の影響

5.4 価格分析

5.4.1 主要な価格指標

5.4.2 価格構造

5.4.3 マージン分析

5.5 技術別市場内訳

5.6 市場内訳応用

5.7 地域別市場内訳

5.8 市場予測

5.9 SWOT分析

5.9.1 概要

5.9.2 強み

5.9.3 弱み

5.9.4 機会

5.9.5 脅威

5.10 バリューチェーン分析

5.10.1 概要

5.10.2 研究開発

5.10.3 原材料調達

5.10.4 製造

5.10.5 マーケティング

5.10.6 流通

5.10.7 最終用途

5.11 ポーターのファイブフォース分析

5.11.1 概要

5.11.2 買い手の交渉力

5.11.3 サプライヤーの交渉力

5.11.4 競争の度合い

5.11.5 新規参入の脅威

5.11.6 代替品の脅威

6 技術別市場内訳

6.1 ArF液浸露光

6.1.1 市場動向

6.1.2 市場予測

6.2 KrF露光

6.2.1 市場動向

6.2.2 市場予測

6.3 i線露光

6.3.1 市場動向

6.3.2 市場予測

6.4 ArFドライ露光

6.4.1 市場動向

6.4.2 市場予測

6.5 EUV露光

6.5.1 市場動向

6.5.2 市場予測

7 アプリケーション別市場内訳

7.1 ファウンドリ露光

7.1.1 市場動向

7.1.2 市場予測

7.2メモリ

7.2.1 市場動向

7.2.2 市場予測

7.3 統合デバイス

7.3.1 市場動向

7.3.2 市場予測

8 地域別市場内訳

8.1 アジア太平洋地域

8.1.1 市場動向

8.1.2 市場予測

8.2 北米

8.2.1 市場動向

8.2.2 市場予測

8.3 欧州

8.3.1 市場動向

8.3.2 市場予測

8.4 中東およびアフリカ

8.4.1 市場動向

8.4.2 市場予測

8.5 中南米

8.5.1 市場動向

8.5.2 市場予測

9 リソグラフィーシステム製造プロセス

9.1 製品概要

9.2 原材料要件

9.3 製造プロセス

9.4 成功要因とリスク要因

10 競争環境

10.1 市場構造

10.2 主要プレーヤー

10.3 主要プレーヤーの概要

10.3.1 ASMLホールディングス

10.3.2 キヤノン

10.3.3 ニコン

10.3.4 ニューフレアテクノロジー株式会社

10.3.5 Veeco Instruments

10.3.6 SUSS MicroTec

10.3.7 Evグループ

図1:世界:リソグラフィシステム市場:主要な推進要因と課題

図2:世界:リソグラフィシステム市場:売上高(10億米ドル)、2017年~2022年

図3:世界:リソグラフィシステム市場:技術別内訳(%)、2022年

図4:世界:リソグラフィシステム市場:用途別内訳(%)、2022年

図5:世界:リソグラフィシステム市場:地域別内訳(%)、2022年

図6:世界:リソグラフィシステム市場予測:売上高(10億米ドル)、2023年~2028年

図7:リソグラフィシステム市場:価格構造

図8:世界:リソグラフィシステム業界:SWOT分析

図9:世界:リソグラフィシステム業界:バリューチェーン分析

図10:世界:リソグラフィシステム業界:ポーターのファイブフォース分析分析

図11:世界:リソグラフィシステム(ArF液浸)市場:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年

図12:世界:リソグラフィシステム(ArF液浸)市場予測:売上高(百万米ドル)、2023~2028年

図13:世界:リソグラフィシステム(KrF)市場:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年

図14:世界:リソグラフィシステム(KrF)市場予測:売上高(百万米ドル)、2023~2028年

図15:世界:リソグラフィシステム(i線)市場:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年

図16:世界:リソグラフィシステム(i線)市場予測:売上高(百万米ドル) 2023~2028年

図17:世界:リソグラフィシステム(ArFドライ)市場:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年

図18:世界:リソグラフィシステム(ArFドライ)市場予測:売上高(百万米ドル)、2023~2028年

図19:世界:リソグラフィシステム(EUV)市場:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年

図20:世界:リソグラフィシステム(EUV)市場予測:売上高(百万米ドル)、2023~2028年

図21:世界:リソグラフィシステム(ファウンドリ)市場:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年

図22:世界:リソグラフィシステム(ファウンドリ)市場予測:売上高(百万米ドル) 2023~2028年

図23:世界:リソグラフィシステム(メモリ)市場:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年

図24:世界:リソグラフィシステム(メモリ)市場予測:売上高(百万米ドル)、2023~2028年

図25:世界:リソグラフィシステム(統合デバイス)市場:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年

図26:世界:リソグラフィシステム(統合デバイス)市場予測:売上高(百万米ドル)、2023~2028年

図27:アジア太平洋地域:リソグラフィシステム市場:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年

図28:アジア太平洋地域:リソグラフィシステム市場予測:売上高(百万米ドル) 2023~2028年

図29:北米:リソグラフィシステム市場:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年

図30:北米:リソグラフィシステム市場予測:売上高(百万米ドル)、2023~2028年

図31:欧州:リソグラフィシステム市場:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年

図32:欧州:リソグラフィシステム市場予測:売上高(百万米ドル)、2023~2028年

図33:中東およびアフリカ:リソグラフィシステム市場:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年

図34:中東およびアフリカ:リソグラフィシステム市場予測:売上高(百万米ドル)、2023~2028年

図35:ラテンアメリカ:リソグラフィシステム市場:売上高(百万米ドル)、2017年および2022年

図36:ラテンアメリカ:リソグラフィシステム市場予測:売上高(百万米ドル)、2023~2028年

図37:リソグラフィシステム製造:詳細なプロセスフロー
※参考情報

リソグラフィ装置は、主に半導体製造や微細加工に使用される機器であり、材料の表面に微細なパターンを形成するための重要なプロセスを担っています。この装置は、光や電子ビームなどのエネルギーを用いて、フォトレジストと呼ばれる感光性材料の上にパターンを転写します。リソグラフィ技術は、特に集積回路(IC)の製造において不可欠であり、現代のエレクトロニクスの根幹をなしています。
リソグラフィ装置には、様々な種類があります。最も一般的なものは、フォトリソグラフィ装置です。この装置は、紫外線光源を利用してパターンを形成します。通常、使用される光源は、商業的には193nmや248nmの波長を持つエキシマレーザーです。この方式は、高い解像度を持ち、現在の半導体製造プロセスにおいて広く用いられています。

次に、電子ビームリソグラフィ(EBL)があります。この方式は、電子ビームを用いて非常に高解像度のパターンを形成することができます。文献的には、ナノメートル単位の解像度を達成することが可能であり、主に研究目的や特殊なデバイスの製造に利用されます。ただし、スループットが低いため、大量生産には不向きとされています。

さらに、X線リソグラフィ(XRL)や極紫外線リソグラフィ(EUV)なども存在します。X線リソグラフィは、より短い波長の光を使用することで、さらなる解像度を提供しますが、装置自体のコストが高く、製造プロセスが複雑であるため、特定の用途に限定されます。EUVリソグラフィは、7nm以下のプロセスノードで使用されることが増えており、最先端の半導体製造における重要な技術となっています。

リソグラフィ装置の用途は多岐にわたります。主なものとしては、半導体デバイスの製造、フラットパネルディスプレイ(FPD)製造、MEMS(微小電気機械システム)やセンサー、光学素子などの製造があります。特に半導体デバイスにおいては、トランジスタやダイオード、抵抗など非常に微細な構造を形成するために不可欠です。

リソグラフィ技術は、製造プロセスの精度を向上させるための関連技術と密接に関連しています。加工技術としてはエッチングや蒸着、成膜などがあり、これらの工程はリソグラフィと組み合わせて、デバイスの最終的な形状を作り上げていきます。また、計測技術も重要であり、パターンの寸法や位置精度を検証するための装置が必要です。

さらに、リソグラフィの分野では、材料科学も重要な役割を果たします。フォトレジストの改良や新しい感光材料の開発は、より高精度なパターン形成を実現するための鍵となります。最近では、ナノリソグラフィや自己組織化技術などの新しい手法も研究されています。

リソグラフィ装置は、今後も半導体業界の進展に伴い、さらなる技術革新が求められる分野であり続けると思われます。特に、AIやIoTの普及に伴い、より高性能で、より小型化されたデバイスの需要が高まっており、リソグラフィ技術の進化はますます重要な要素となっています。技術者や研究者は、この分野における新しい挑戦に応えるため、日々取り組んでいるのです。


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※当市場調査資料(IMARC23JUL0189 )"リソグラフィ装置の世界市場2023~2028:産業動向、シェア、規模、成長、機会・予測" (英文:Lithography Systems Market: Global Industry Trends, Share, Size, Growth, Opportunity and Forecast 2023-2028)はIMARC社が調査・発行しており、H&Iグローバルリサーチが販売します。


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