2025年6月9日
H&Iグローバルリサーチ（株）
*****「半導体化学気相成長装置の世界市場予測（2025～2029）」産業調査レポートを販売開始 *****
H&Iグローバルリサーチ株式会社（本社：東京都中央区）は、この度、Technavio社が調査・発行した「半導体化学気相成長装置の世界市場予測（2025～2029）」市場調査レポートの販売を開始しました。半導体化学気相成長装置の世界市場規模、市場動向、市場予測、関連企業情報などが含まれています。
***** 調査レポートの概要 *****
半導体化学気相成長（CVD）装置市場に関する詳細な市場調査レポート概要
半導体産業は、近年ますます多様化・高度化が進み、あらゆる電子デバイスの中核を担う要素技術として、成膜プロセスの高度化が求められています。特に、化学気相成長（Chemical Vapor Deposition: CVD）技術は、微細構造の制御、機能性材料の導入、膜厚の均一性といった面で他の成膜技術と比較して優位性があり、最先端の半導体製造プロセスにおいて不可欠な存在となっています。本レポートでは、CVD装置市場の現状と将来展望、成長因子、セグメント別動向、主要企業、市場課題、地域別分析などを包括的に調査・分析しています。
市場の定義と分類
CVD装置は、ガス状の原料を高温・真空下で基板表面に化学反応を起こさせ、薄膜を形成する装置です。物理気相成長（PVD）と異なり、化学反応を利用することで緻密で均質な膜を生成できるため、半導体製造工程の中でも重要なポジションを占めています。
CVD装置には以下のようなタイプが含まれます：
- プラズマ強化型CVD（PECVD）
- 低圧CVD（LPCVD）
- 大気圧CVD（APCVD）
- 金属有機CVD（MOCVD）
- 熱CVD（Thermal CVD）
- 原子層堆積（ALD）に近いプロセスとのハイブリッド装置
これらは、形成する膜種（酸化膜、窒化膜、炭化膜など）や使用目的（絶縁膜、拡散バリア、パッシベーション）によって選定され、製品やデバイスごとに最適な装置が導入されています。
市場規模と成長予測
グローバルにおけるCVD装置市場は2024年時点で約100億米ドル規模に達しており、2029年までに170億米ドルを超えると見込まれています。年平均成長率（CAGR）は8〜9％程度で推移すると予想され、メモリ、ロジック、パワー半導体、ディスプレイ、LED、MEMSといった幅広いアプリケーションへの対応が需要の背景にあります。
特に5G・AI・EV・再生可能エネルギーなどの新興市場において、先端半導体技術の採用が拡大しており、CVD装置に求められる性能も年々厳しさを増しています。これは膜の厚み、密度、均一性、コンタミ耐性、成膜速度、プロセス安定性など、多岐にわたる技術要件への高度な対応が求められることを意味しています。
セグメント別分析
- PECVD（プラズマ強化型CVD）
PECVDは低温プロセスが可能なため、熱に弱い材料や層構造に適しています。高アスペクト比構造にも対応でき、ロジックやメモリの絶縁膜形成に幅広く使用されています。 - LPCVD（低圧CVD）
成膜精度が非常に高く、サブナノレベルの膜厚制御が求められる工程に多用されます。装置は大規模でコストも高いですが、量産性・再現性に優れています。 - MOCVD（金属有機CVD）
主に化合物半導体（GaN, InP, GaAsなど）の成膜に用いられ、LEDやパワーデバイスの基板形成に特化しています。EVや照明市場の拡大と連動し、MOCVD装置市場も拡大しています。 - 用途別分析
用途としては、以下の分野が挙げられます：
- ロジック・CPU製造
- NAND/DRAM製造
- パワー半導体（SiC、GaN）
- MEMSセンサー
- LED・マイクロLED
- 有機ELパネル・フレキシブルディスプレイ
地域別市場動向
- アジア太平洋（APAC）
中国、台湾、韓国、日本が主要な市場です。特に中国は国家レベルで半導体の内製化を進めており、設備投資が急増中です。韓国・台湾は世界のメモリ市場を牽引しており、CVD装置需要の大半を占めています。 - 北米
インテル、グローバルファウンドリーズなどのファブ再構築、CHIPS法の施行により再び製造回帰の流れが加速。装置需要も回復傾向にあります。 - 欧州
InfineonやSTMicroなどのパワー半導体メーカーがCVD装置を積極的に導入。エネルギー・車載向けが中心。
主要企業分析
本レポートでは、以下のような企業が市場を牽引する主要プレイヤーとして挙げられています：
- Applied Materials
- Tokyo Electron（東京エレクトロン）
- Lam Research
- ASM International
- Veeco Instruments
- Jusung Engineering
- Hitachi High-Tech
- ULVAC
これらの企業は、性能向上や成膜材料の多様化に対応する新モデルを継続的に開発・リリースしており、グローバル競争の最前線でシェア争いが繰り広げられています。
市場の課題と展望
今後の課題には以下が含まれます：
- 設備コストの高さとROIへの懸念
- 原材料（高純度ガス、前駆体など）の供給安定性
- 膜種ごとのプロセス条件最適化に要する時間と知見
- ALDやスパッタなど他技術との融合や代替リスク
しかし、先端パッケージ、3D構造化、ハイブリッドIC、新素材採用など、CVDの役割がますます多様化する中で、同市場の長期的な拡大は不可避と見られています。
***** 調査レポートの目次(一部抜粋) *****
第1章 方法論とレポート範囲
1.1 調査方法
1.1.1 文献調査（一次・二次資料）
1.1.2 定量分析技法（市場モデル、CAGR算出）
1.1.3 定性分析手法（エキスパートインタビュー等）
1.2 調査範囲と前提条件
– 地理的範囲（地域・国別）
– 装置カバレッジ（PECVD、LPCVD 等）
– タイムフレーム（過去分析期間～予測期間）
1.3 情報ソース
1.3.1 購入データベース
1.3.2 GVR/MarketReport内部データ
1.3.3 公的／業界レポート等二次情報
1.3.4 一次調査（企業インタビュー）
1.4 データ分析
1.4.1 市場モデルおよび計算ロジック
1.4.2 AHP・SWOT 等評価フレーム
1.4.3 定量データの整合性検証
1.5 市場形成プロセス & ビジュアル化手法
– ピラミッド構造図、バリューチェーン図
1.6 データ検証と公開手順
– クロスチェック、専門家レビュー、PDF/Excel付録
第2章 エグゼクティブサマリー
2.1 グローバル市場展望
– 市場規模（ユニット数、MLD USD）
– 2023年実績・2030年予測（CAGR）
2.2 セグメント別見通し
– 技術別（PECVD、MOCVD、LPCVD等）
– アプリケーション別（メモリ、プロセッサ等）
– 地域別（アジア太平洋、北米など）
2.3 競合企業戦略ハイライト
– 主要プレイヤーの市場シェアと差別化ポイント
2.4 主な業績・見通しまとめ
第3章 市場変数・トレンド・適用範囲
3.1 市場構造の全体像
– 需要・供給構造の整理
3.2 市場セグメンテーション
– 技術・用途・地域別分析枠組み
3.3 普及・成長マッピング
– 技術別・地域別の導入マップ
3.4 バリューチェーン分析
3.4.1 原材料（シラン、プラズマガス等）
3.4.2 装置開発と技術トレンド
3.5 規制環境
– 欧米・日本・中国を中心とした環境規制
3.6 技術概要
– 各種CVD技術（PECVD, LPCVD, MOCVD, ALD 等）の基本原理
3.7 市場ダイナミクス
3.7.1 プロセス革新（多層厚膜／高k誘電体等）
3.7.2 成長ドライバー（AI・5G・EV等用途拡大）
3.7.3 阻害要因（素材コスト、サプライチェーンリスク）
3.7.4 市場機会（新興国の設備投資、高性能メモリ向け）
第4章 セグメント別分析
4.1 技術別市場動向
4.1.1 PECVD：トリム膜、アモルファスSi膜用途
4.1.2 LPCVD：高速成膜・高密度薄膜技術
4.1.3 MOCVD：LED・化合物半導体製造用途
4.1.4 APCVD／UHVCVD：用途別・温度制御
4.1.5 ALDと次世代成膜：原子層制御、微細加工対応
4.2 用途別成膜プロセス
– ゲート誘電体、金属層、MEMS、LED、DRAMトレンチ等
4.3 エンドユーザー別セグメント
– ファウンドリ、IDM、メモリーメーカー
– 自動車用、通信インフラ用等
4.4 基板／デバイスタイプ別分析
– シリコンウェーハ／SiC／GaN 等化合物半導体
4.5 地域別市場評価
4.5.1 北米（米国企業主導の先端装置開発）
4.5.2 アジア太平洋（中国・韓国・台湾・日本）
4.5.3 欧州（ドイツ・オランダ中心のR&D）
4.5.4 その他（中南米・中東・アフリカ状況）
第5章 市場規模・予測
5.1 歴史的市場規模
– 2019～2023年 ユニット数・USD
5.2 将来予測（CAGRおよび絶対額）
– 2024～2030年予測、5.8 ％ CAGR
5.3 セグメント別売上／成長率
– 技術別、用途別、地域別
5.4 価格トレンドと平均単価推移
5.5 価格敏感性・市場反応モデル
第6章 競合企業プロファイル
6.1 主要企業概要
– Applied Materials, Lam Research, Tokyo Electron 他
6.2 企業ごとの事業戦略・技術資産
– 装置ライン／特許／パートナー連携
6.3 財務実績・市場シェア
6.4 技術ロードマップ／R&D投資
第7章 競合環境と戦略分析
7.1 市場シェア構造（集中度分析）
7.2 競合マトリックス
– 技術力 vs 価格 vs 地理展開
7.3 M&A／協業トレンド
– 業界統合、提携・JV事例
7.4 新規参入・スタートアップ分析
第8章 技術・イノベーション動向
8.1 AI／自動化によるプロセス最適化
8.2 装置モジュール化・プラットフォーム統合
8.3 原子層堆積（ALD）の台頭
8.4 高k材料・3次元構造への対応装置開発
8.5 環境配慮型装置技術（省エネ・排出低減）
第9章 リスク評価・規制動向
9.1 地政学・サプライチェーンリスク
– 米中対立、素材・装置制裁等影響
9.2 環境／安全規制強化
– 欧米のREACH法規制、日本J-MOSS等
9.3 技術リスク・代替プロセスの影響
9.4 市場波動ケースシナリオ分析
第10章 結論と推奨戦略
10.1 主要気づきの要約
10.2 市場参入／拡大戦略提言
– 装置メーカー／サプライヤー向け
10.3 M&A・提携／アライアンス機会
10.4 投資とR&D配分の優先順位付け
第11章 付録
- 調査手法詳細
B. 図表一覧
C. 用語集
D. 参考文献一覧
E. アナリスト連絡先
※「半導体化学気相成長装置の世界市場予測（2025～2029）」調査レポートの詳細紹介ページ
※その他、Technavio社調査・発行の市場調査レポート一覧
⇒https://www.marketreport.jp/technavio-reports-list
***** H&Iグローバルリサーチ（株）会社概要 *****
・本社所在地：〒104-0033 東京都中央区新川1-6-12
・TEL：03-6555-2340 E-mail：pr@globalresearch.co.jp
・事業内容：市場調査レポート販売、委託調査サービス、情報コンテンツ企画、経営コンサルティング
・ウェブサイト：https://www.globalresearch.co.jp
