2025年11月26日
H&Iグローバルリサーチ（株）
*****「化学気相堆積（CVD）の世界市場：カテゴリー別（CVD装置、CVD材料、CVDサービス）（2025～2030）」産業調査レポートを販売開始 *****
H&Iグローバルリサーチ株式会社（本社：東京都中央区）は、この度、Grand View Research社が調査・発行した「化学気相堆積（CVD）の世界市場：カテゴリー別（CVD装置、CVD材料、CVDサービス）（2025～2030）」市場調査レポートの販売を開始しました。化学気相堆積（CVD）の世界市場規模、市場動向、市場予測、関連企業情報などが含まれています。
***** 調査レポートの概要 *****
- CVD（Chemical Vapor Deposition）市場の基礎概要
化学気相成長（CVD）市場は、薄膜形成技術の中でも特に高い精度と材料適応性を持つプロセスとして、半導体、電子デバイス、エネルギー、光学材料など幅広い分野で拡大しています。本市場では、材料を加熱した状態で気相から基板表面に堆積させ、均一で高純度の薄膜を形成する技術が中核となっており、微細化を進める現代の半導体製造技術に欠かせない基盤技術として位置づけられています。特にロジック半導体、メモリ、各種化合物半導体など、多様なデバイスの製造における膜質向上要求が高まる中、CVD装置および関連材料の需要は強い伸びを示しています。
デバイス性能向上のため、原子レベルの膜厚制御や膜質改善が求められる市場では、プラズマCVD、低圧CVD（LPCVD）、高密度プラズマCVD（HDP-CVD）など複数の技術が併存し、用途に応じた技術選択が高度化しています。同時に、3D NAND、FinFET、Gate-All-Around（GAA）など立体構造デバイスが主流となるにつれ、複雑な構造を均一に成膜できるCVDの重要性は増しています。これに伴い、材料ガス、高純度前駆体、基板洗浄・表面処理技術など周辺産業も拡大し、総合的な技術エコシステムが形成されつつあります。
- 成長要因と市場特性：半導体需要が牽引する技術進化
CVD市場をけん引する最大の要因は、世界的な半導体需要の拡大です。スマートフォン、データセンター、AIサーバー、自動車用パワーデバイス、通信機器、IoT機器の普及により、ロジック・メモリ双方で量産が加速しています。特にAI技術の急速な普及に伴い、高性能GPU、HPCデバイス、HBMメモリなどの生産が増え、それに応じて微細化と高密度化が求められています。微細化が進むほど薄膜の均一性・精密性が重要になるため、CVD技術の役割がさらに大きくなっています。
また、エネルギー分野においては、太陽光発電セルやSiC・GaNなどのパワー半導体材料でも高品質な薄膜形成が必須とされるため、CVD装置市場は電子産業全体に広く影響を受けています。特にSiCデバイス用エピタキシャル成長（Epi）ではCVDが中核工程であり、電動車（EV）市場の急成長とともに需要が拡大している点も特徴です。
さらに市場全体としては、
装置の大型化・高スループット化
低温成膜技術の開発
省エネルギー設計への要求
複雑化する3D構造への均一性向上
など、多方面の技術革新が続いていることも顕著です。こうした背景により、CVD市場は今後も半導体産業と密接に連動しながら、継続的な成長が期待される構造となっています。
- 市場の構造と領域別の発展：装置・材料・用途の広がり
CVD市場は、装置、材料、用途の三つの大きな要素によって構成されます。この中で最も大きな比重を占めるのは装置市場で、半導体製造装置メーカーが大型投資を行う領域です。装置にはプラズマCVD、LPCVD、HDP-CVD、MOCVDなど複数の方式があり、プロセス要求に応じて使い分けられています。特に化合物半導体の製造に用いられるMOCVDは、LED製造やパワーデバイス領域で重要性を増しており、材料分野と強い連動性を持っています。
材料市場では、シリコン系前駆体（SiH₄、SiCl₄、TEOS など）から金属系前駆体（W、Ti、Al、Hf など）まで多岐にわたり、さらに成膜用途に応じて独自の高純度ガスが開発されています。材料メーカーは、微細化に伴う膜質要求の高度化に対応するため、新規前駆体の研究開発を進めており、製造プロセスに不可欠な領域として注目されています。
用途別では、半導体デバイス製造が最大市場であり、ロジック・メモリ双方で高い比率を占めています。次いで太陽光セル、LED、電力変換デバイス、光学薄膜、各種センサーなど幅広い分野に応用されます。さらに、医療材料やコーティング、特殊応用領域でもCVD技術が採用されており、産業としての裾野は非常に広いです。
地域別では、アジア太平洋地域が最大市場であり、特に台湾、韓国、中国、日本が世界の半導体製造拠点として突出しています。北米・欧州も先端技術開発の中心として重要性が高く、世界全体で多層的な供給網が形成されています。
***** 調査レポートの目次(一部抜粋) *****
- 世界のCVD市場全体像と基本概念
本章では、CVD技術の基礎理論、化学反応プロセス、薄膜形成メカニズム、装置構造の基本、技術分類などを体系的にまとめています。さらに、産業全体におけるCVDプロセスの重要性、半導体・エネルギー・光学分野における役割など、技術背景を理解するための基礎情報が網羅されています。
- 市場環境およびマクロ経済要因の分析
世界経済の動向、半導体需要の推移、エレクトロニクス産業の投資動向、エネルギー市場の拡大、環境規制の強化など、CVD市場に影響を与える主要マクロ要因を詳細に分析しています。需給バランス、技術投資のトレンド、各国の産業政策なども含まれ、市場拡大の背景理解に役立つ内容になっています。
- 技術別セグメント分析（LPCVD / PECVD / HDP-CVD / MOCVD など）
本章では、主要なCVD方式ごとの特徴、プロセス条件、成膜性能、用途別適合性を比較しながら市場規模の分析が行われています。各技術の導入動機、競争優位性、産業における採用動向などが細かく整理され、方式別の成長率、需要予測、技術革新の方向性が示されています。
- 応用用途別市場分析（半導体・ディスプレイ・太陽電池・LED など）
半導体製造における微細化・3D構造化の進展、パワーデバイス需要の増加、光学薄膜形成、太陽電池セルの効率化、LED・照明産業の成熟など、CVDの主要応用分野ごとに詳細な市場分析が行われています。各用途で求められる膜質や厚み制御、歩留まり要求、設備投資の推移なども解説されます。
- 材料・前駆体市場の分析（シリコン系・金属系・窒化物系など）
CVDに不可欠な材料ガスや前駆体化学物質（SiH4、TEOS、TMA、TMI、Hf系化合物など）について、供給企業、材料の特性、市場規模、純度要求、価格動向などの分析が含まれます。また、微細化に伴う材料革新の必要性や、次世代デバイスに向けた新規材料の開発動向も紹介されています。
- 装置メーカー・材料メーカーなど主要企業の競争分析
上位メーカーの市場シェア、製品ポートフォリオ、技術戦略、研究開発動向、近年のM&Aや提携、顧客基盤などを多角的に分析しています。また、地政学的リスクやサプライチェーン構造など、競争環境の背景にある要因も含まれます。
- 地域別市場分析（北米・欧州・アジア太平洋・中東・南米など）
地域別に、産業構造、半導体製造能力、政府政策、投資動向、デバイスメーカーの分布、輸出入動向などの分析を掲載しています。特にアジアは最大市場として詳細な国別分析が行われ、韓国・台湾・中国・日本それぞれの製造能力や装置導入状況などが丁寧に整理されています。
- 市場予測と成長機会の特定（短期・中期・長期）
本章では、市場規模の将来予測、技術革新シナリオ、成長ドライバー、抑制要因、競争環境の変化などを踏まえ、今後10年程度の市場見通しを提示しています。また、次世代CVD技術、EV/AI産業の拡大、化合物半導体需要の伸長など、成長機会が解説されています。
- 課題とリスク要因（技術的・経済的・供給網）
CVD市場が抱える課題として、装置の大型化、エネルギー消費、前駆体コスト、プロセス複雑化、サプライチェーンの不安定化などが議論されています。また、国際規制の強化や地政学的緊張といった外的要因も分析対象になっています。
- 今後の技術動向とイノベーションの方向性
原子層堆積技術（ALD）との融合、低温プロセス化、材料消費効率の向上、高アスペクト比構造への成膜対応、AIによるプロセス制御、持続可能な材料利用など、今後注目される研究開発領域が体系的に整理されています。
※「化学気相堆積（CVD）の世界市場：カテゴリー別（CVD装置、CVD材料、CVDサービス）（2025～2030）」調査レポートの詳細紹介ページ
⇒https://www.marketreport.jp/chemical-vapor-deposition-market
※その他、Grand View Research社調査・発行の市場調査レポート一覧
⇒https://www.marketreport.jp/grand-view-research-reports-list
***** H&Iグローバルリサーチ（株）会社概要 *****
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