1 序文
2 調査範囲と方法論
2.1 調査の目的
2.2 ステークホルダー
2.3 データソース
2.3.1 一次情報源
2.3.2 二次情報源
2.4 市場推計
2.4.1 ボトムアップアプローチ
2.4.2 トップダウンアプローチ
2.5 予測方法論
3 エグゼクティブサマリー
4 はじめに
4.1 概要
4.2 主要な業界動向
5 世界のフォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場
5.1 市場概要
5.2 市場動向
5.3 COVID-19の影響
5.4 価格分析
5.5 フォトレジストの種類別市場内訳
5.6 フォトレジスト関連製品の種類別市場内訳
5.7 用途別市場内訳
5.8地域別市場内訳
5.9 市場予測
5.10 SWOT分析
5.10.1 概要
5.10.2 強み
5.10.3 弱み
5.10.4 機会
5.10.5 脅威
5.11 バリューチェーン分析
5.11.1 概要
5.11.2 研究開発
5.11.3 原材料調達
5.11.4 製造
5.11.5 マーケティング
5.11.6 流通
5.11.7 最終用途
5.12 ポーターのファイブフォース分析
5.12.1 概要
5.12.2 買い手の交渉力
5.12.3 サプライヤーの交渉力
5.12.4 競争の度合い
5.12.5 新規参入の脅威
5.12.6 代替品の脅威
6 フォトレジスト市場：タイプ別内訳
6.1 ArF液浸レジスト
6.1.1 市場動向
6.1.2 市場予測
6.2 KrFレジスト
6.2.1 市場動向
6.2.2 市場予測
6.3 ArFドライレジスト
6.3.1 市場動向
6.3.2 市場予測
6.4 g線およびi線レジスト
6.4.1 市場動向
6.4.2 市場予測
7 フォトレジスト関連製品市場：タイプ別内訳
7.1 反射防止コーティング
7.1.1 市場動向
7.1.2 市場予測
7.2 除去剤
7.2.1 市場トレンド
7.2.2 市場予測
7.3 現像液
7.3.1 市場トレンド
7.3.2 市場予測
7.4 その他
7.4.1 市場トレンド
7.4.2 市場予測
8 フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場：用途別内訳
8.1 半導体およびICS
8.1.1 市場動向
8.1.2 市場予測
8.2 LCD
8.2.1 市場動向
8.2.2 市場予測
8.3 プリント基板
8.3.1 市場動向
8.3.2 市場予測
8.4 その他
8.4.1 市場動向
8.4.2 市場予測
9 地域別市場内訳
9.1 アジア太平洋地域
9.1.1 市場動向
9.1.2 市場予測
9.2 北米
9.2.1 市場動向
9.2.2 市場予測
9.3 欧州
9.3.1 市場動向
9.3.2 市場予測
9.4 中東・アフリカ
9.4.1 市場トレンド
9.4.2 市場予測
9.5 ラテンアメリカ
9.5.1 市場トレンド
9.5.2 市場予測
10 製造プロセス
10.1 製品概要
10.2 原材料要件
10.3 製造プロセス
10.4 成功要因とリスク要因
11 競争環境
11.1 市場構造
11.2 主要プレーヤー
11.3 主要プレーヤーの概要
11.3.1 東京応化工業株式会社
11.3.2 JSR株式会社
11.3.3 デュポン・ド・ヌムール株式会社
11.3.4 信越化学工業株式会社
11.3.5 富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社
11.3.6 住友化学株式会社
11.3.7 メルク・アズ・エレクトロニクス・マテリアルズ
11.3.8 オールレジスト GmbH
11.3.9 アバンター・パフォーマンス・マテリアルズ LLC
11.3.10 マイクロケミカルズ GmbH
図1：世界のフォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場：主要な推進要因と課題図2：世界のフォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場：売上高（10億米ドル）、2017年～2022年
図3：世界のフォトレジスト市場：タイプ別内訳（%）、2022年
図4：世界のフォトレジスト関連製品市場：タイプ別内訳（%）、2022年
図5：世界のフォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場：用途別内訳（%）、2022年
図6：世界のフォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場：地域別内訳（%）、2022年
図7：世界のフォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場予測：売上高（10億米ドル）、2023年～2028年
図8：世界：フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品業界：SWOT分析
図9：世界：フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品業界：バリューチェーン分析
図10：世界：フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品業界：ポーターのファイブフォース分析
図11：世界：フォトレジスト（ArF液浸）市場：売上高（百万米ドル）、2017年および2022年
図12：世界：フォトレジスト（ArF液浸）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023～2028年
図13：世界：フォトレジスト（KrF）市場：売上高（百万米ドル）、2017年および2022年
図14：世界：フォトレジスト（KrF）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023～2028年
図15：世界：フォトレジスト（ArFドライ）市場：売上高（百万米ドル）、2017年および2022年
図16：世界：フォトレジスト（ArFドライ）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023～2028年
図17：世界：フォトレジスト（g線およびi線）市場：売上高（百万米ドル）、2017年および2022年
図18：世界：フォトレジスト（g線およびi線）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023～2028年
図19：世界：フォトレジスト関連製品（反射防止コーティング）市場：売上高（百万米ドル）、2017年および2022年
図20：世界：フォトレジスト関連製品（反射防止コーティング）市場予測：売上高（百万米ドル） （百万米ドル）、2023～2028年
図21：世界：フォトレジスト関連製品（除去剤）市場：売上高（百万米ドル）、2017年および2022年
図22：世界：フォトレジスト関連製品（除去剤）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023～2028年
図23：世界：フォトレジスト関連製品（現像剤）市場：売上高（百万米ドル）、2017年および2022年
図24：世界：フォトレジスト関連製品（現像剤）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023～2028年
図25：世界：フォトレジスト関連製品（その他のタイプ）市場：売上高（百万米ドル）、2017年および2022年
図26：世界：フォトレジスト補助材料（その他）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023～2028年
図27：世界：フォトレジストおよびフォトレジスト補助材料（半導体およびICS用途）市場：売上高（百万米ドル）、2017年および2022年
図28：世界：フォトレジストおよびフォトレジスト補助材料（半導体およびICS用途）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023～2028年
図29：世界：フォトレジストおよびフォトレジスト補助材料（LCD用途）市場：売上高（百万米ドル）、2017年および2022年
図30：世界：フォトレジストおよびフォトレジスト補助材料（LCD用途）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023～2028年
図図31：世界：フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品（プリント基板用途）市場：売上高（百万米ドル）、2017年および2022年
図32：世界：フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品（プリント基板用途）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023～2028年
図33：世界：フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品（その他の用途）市場：売上高（百万米ドル）、2017年および2022年
図34：世界：フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品（その他の用途）市場予測：売上高（百万米ドル）、2023～2028年
図35：アジア太平洋地域：フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場：売上高（百万米ドル）、2017年および2022年
図36: アジア太平洋地域：フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場予測：売上高（百万米ドル）、2023～2028年
図37: 北米：フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場：売上高（百万米ドル）、2017年および2022年
図38: 北米：フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場予測：売上高（百万米ドル）、2023～2028年
図39: 欧州：フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場：売上高（百万米ドル）、2017年および2022年
図40: 欧州：フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場予測：売上高（百万米ドル）、2023～2028年
図41: 中東およびアフリカ：フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場：売上高（百万米ドル） （百万米ドル）、2017年および2022年
図42：中東およびアフリカ：フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場予測：売上高（百万米ドル）、2023～2028年
図43：ラテンアメリカ：フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場予測：売上高（百万米ドル）、2017年および2022年
図44：ラテンアメリカ：フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場予測：売上高（百万米ドル）、2023～2028年
表1：世界：フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場：主要な業界動向（2022年および2028年）
表2：世界：フォトレジスト市場予測：タイプ別内訳（百万米ドル）、2023～2028年
表3：世界：フォトレジスト関連製品市場予測：タイプ別内訳（百万米ドル）、2023～2028年
表4：世界：フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場予測：用途別内訳（百万米ドル）、2023～2028年
表5：世界：フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場予測：地域別内訳（百万米ドル）、2023～2028年
表6：世界：フォトレジストおよびフォトレジスト関連製品市場：競争構造
表7：世界：フォトレジストおよびフォトレジスト付属品市場：主要プレーヤー
| ※参考情報 フォトレジストとは、半導体製造や微細加工技術において使用される感光性のポリマー材料です。この材料は、光を照射することで化学的性質が変化し、その後の現像処理によってパターンを形成することができます。フォトレジストは、主にシリコンウェハー上に薄膜を形成し、フォトリソグラフィー技術を用いて所望のパターンを転写する役割を果たします。この技術は、トランジスタや回路、その他の微細パターンの製造に欠かせないプロセスです。 フォトレジストには大きく分けて二つのタイプが存在します。一つはポジ型フォトレジストで、光の照射を受けた部分が溶解しやすくなる特性を持っています。このため、光が当たった部分が現像時に除去され、残った部分に基づいてパターンが形成されます。もう一つはネガ型フォトレジストで、こちらは光照射後に照射された部分が硬化し、現像処理ではその部分が残るようになります。これらのフォトレジストは、使用する光源の波長や特性によって選ばれ、用途に応じた適切な選択が求められます。 フォトレジストの用途は多岐にわたりますが、主に半導体デバイスの製造プロセスにおいて頻繁に使用されます。例えば、集積回路の製造において、トランジスタや配線のミニチュア化を実現するためには、高精度なパターン形成が必要不可欠です。また、ディスプレイパネルや光学素子の製造、さらにはMEMS（微小電気機械システム）デバイスの製造でもフォトレジストが活用されています。 フォトレジスト付属品には、現像液やエッチング液、ブレンダー、スピンコーター、マスクなどが含まれます。現像液はフォトレジストを現像する際に使用され、ポジ型では露光された部分を除去し、ネガ型では硬化した部分を残す役割を果たします。エッチング液は、形成されたパターンを基に基板の材料を除去するために使用され、深さや形状を精密に制御するための重要な要素です。 スピンコーターは、フォトレジストをシリコンウェハーに均一に塗布するための機器で、その回転速度や時間を調整することで膜厚を精密にコントロールできます。マスクは、フォトレジストにパターンを転写するための重要な役割を果たし、光源からの光を特定の形状に変えることによって、ウェハー上にパターンを形成します。 最近では、ナノテクノロジーの進展に伴い、フォトレジストや付属品の性能向上が求められています。特に、極紫外線（EUV）リソグラフィーに対応した新しいフォトレジストの研究が進められており、これによりさらなる微細化が期待されています。また、環境への配慮から、生分解性やエコフレンドリーなタイプのフォトレジストの開発も進行中です。 さらに、AI技術の導入により、フォトレジストプロセスの最適化が進められています。データ解析や機械学習によって、フォトレジストの特性やパフォーマンスを予測し、製造プロセスの効率化が図られています。このように、フォトレジストおよびその付属品は、半導体産業の発展において非常に重要な役割を果たしており、今後もさらなる革新が期待される分野です。 |
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