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半導体フォトリソグラフィ装置の世界及び日本市場2026年：露光光源別（EUVリソグラフィ、ArFiリソグラフィ、ArFドライリソグラフィ、KrFリソグラフィ、I線リソグラフィ）

■ 英語タイトル：Semiconductor Photolithography Equipment - Global Top Players Market Share and Ranking 2026
	■ 発行会社/調査会社：YH Research ■ 商品コード：YHR26MY5077 ■ 発行日：2026年5月 ■ 調査対象地域：グローバル ■ 産業分野：電子・半導体 ■ ページ数：100 ■ レポート言語：英語 ■ レポート形式：PDF ■ 納品方式：Eメール

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★グローバルリサーチ資料[半導体フォトリソグラフィ装置の世界及び日本市場2026年：露光光源別（EUVリソグラフィ、ArFiリソグラフィ、ArFドライリソグラフィ、KrFリソグラフィ、I線リソグラフィ）]についてメールでお問い合わせはこちら

*** レポート概要（サマリー）***

世界の半導体フォトリソグラフィ装置市場は、2025年の256億9400万米ドルから2032年までに470億1400万米ドルへと成長し、2026年から2032年までの期間におけるCAGRは7.5%となる見込みです。
2025年の米国関税メカニズムの戦略的再調整は、世界経済ガバナンスの規範を再定義しつつあります。本調査では、関税エスカレーションの伝播メカニズムと、企業の投資戦略、地域貿易ネットワーク、重要素材の供給体制に対する世界的な政策対応を分析する。
スマートフォンや家電製品など、幅広い製品が小型化・多機能化しており、これらは今や日常生活の一部となっている。半導体リソグラフィ技術は、これらの製品に不可欠な構成要素である半導体（集積回路）の進化に大きく貢献している。
半導体リソグラフィシステムは、大型ガラス板で作られたフォトマスク上に描かれた極めて複雑な回路パターンを、超高性能レンズを用いて縮小し、ウェハーと呼ばれるシリコン基板に露光するプロセスを行う。
半導体リソグラフィ装置には、EUVリソグラフィ装置、ArF液浸リソグラフィ装置、ArFドライリソグラフィ装置、KrFリソグラフィ装置、i線リソグラフィ装置などがある。
世界の半導体リソグラフィ装置市場は、ASML、ニコン、キヤノンの3社によって独占されている。ASMLは最大手メーカーであり、市場シェアの90%以上を占めている。ニコンとキヤノンは、それぞれ市場シェアの5%を占めている。
世界市場の現状および競争環境の観点から見ると、最先端のリソグラフィー市場は構造的に集中している。EUV（新興のHigh-NA EUV世代を含む）はASMLによって商用化され、大規模に供給されており、信頼できる最近の報告によると、ASMLのリソグラフィー市場全体におけるシェアは約90%であり、EUV市場は事実上独占されたままである。製品および出荷構成に関しては、ASMLのNXEファミリー（0.33 NA EUV）が先進ロジックおよび先進メモリの重要な層を支えており、一方、同社のArF液浸プラットフォームは、マルチパターニング、オーバーレイ制御、および生産能力の柔軟性において依然として中心的な役割を果たしている。 ASMLの2024年の開示資料には、初のHigh-NA EUV（0.55 NA）システムの納入・現場設置が記録されており、EXEおよびNXEシステムの主要な受注台数が示されている。これは、研究開発から初期の産業化への移行を裏付けるものである。一方、ニコンとキヤノンは主にDUVおよびi-lineセグメントで競合しており、バックエンド／先進パッケージング露光分野でも戦略的な地位を維持している。ニコンの公式ラインナップにはArF液浸システムが含まれており、同社は次世代プラットフォームの共同開発やバックエンドプロセス向けの「デジタルリソグラフィ」の方向性について公に議論している。一方、キヤノンの公表ラインナップは、FEOLおよび先進パッケージング向けのKrFスキャナー／ステッパーやi-lineステッパーに及ぶほか、NILの商用化を推進し、パッケージング関連のリソグラフィー分野での存在感を強調している。
主要なトレンドと推進要因は、3つの流れに分類できる。第一に、高NA EUVの産業化が主要な技術的転換点である。0.55 NA EUVは、最も重要な層において高解像度とマルチパターニング工程の削減を目指し、プロセスウィンドウの改善と所有コスト（CoO）の低減をもたらす可能性がある一方で、光学系、材料、計測、ソフトウェアにわたるより緊密な共同最適化（ホリスティック・リソグラフィ）を必要とする。第二に、先進DUVは構造的に不可欠な存在であり続ける。EUVが拡大する中でも、ArF液浸は依然として重要層および準重要層の大部分を担っており、ロードマップではスループットの向上、オーバーレイ精度の向上、および既存のファブエコシステムとの強力な互換性が強調されている。これらは、ニコンが2030年に向けた新プラットフォーム計画と明確に結びつけている分野である。第三に、先進パッケージングはリソグラフィの適用範囲を拡大する。チプレットベースの集積、 2.5D/3D積層、およびRDL/パネルレベルプロセスにより、高オーバーレイ・高生産性のバックエンド露光装置（多くの場合i-line中心）への需要が高まっている一方、NILは、特定のユースケースにおいて1X nmパターンを形成可能な、低消費電力かつ潜在的に低コストな手法として位置付けられており、これはキヤノンの統合報告書および年次開示資料で明確に強調されている。需要側の牽引要因は、AI/HPCおよびデータセンターの拡張、ならびにそれに関連する先進ロジックおよびメモリ（例：HBM/DDR5）への移行に依然として支えられており、これらはウェハーあたりの「リソグラフィー集約度」（層数の増加およびオーバーレイ／CDU要件の厳格化）を高めている。輸出規制や地政学的な要因は、装置の配分、サプライチェーンのレジリエンス、および地域ごとの生産能力戦略にさらなる影響を与え、リソグラフィシステムを戦略的かつ生産能力を制約する資産として位置づけています。
本レポートは、世界の半導体フォトリソグラフィ装置の現状と将来の動向を調査・分析し、露光光源別、用途別、企業別、および地域・国別の半導体フォトリソグラフィ装置市場の規模を把握する一助となります。本レポートは、半導体フォトリソグラフィ装置の世界市場に関する詳細かつ包括的な分析であり、2025年を基準年として、市場規模（台数および百万米ドル）および前年比成長率を提示しています。
市場をより深く理解するために、本レポートでは競争環境、主要競合他社、およびそれぞれの市場順位に関するプロファイルを提供しています。また、技術動向や新製品開発についても論じています。
サプライヤーの売上高、市場シェア、企業プロファイルを含む、市場内の競争環境を評価します。

【ハイライト】
(1) 世界の半導体フォトリソグラフィ装置の市場規模、2021年～2025年の過去データ、および2026年～2032年の予測データ（百万米ドル）および（台数）
(2) 世界の半導体フォトリソグラフィ装置の販売台数、売上高、企業別価格、市場シェア、業界ランキング（2021-2026年）（百万米ドル）および（台数）
(3) 日本の半導体フォトリソグラフィ装置の販売台数、売上高、企業別価格、市場シェア、業界ランキング（2021-2026年）（百万米ドル）および（台数）
(4) 世界の半導体フォトリソグラフィ装置の主要消費地域、消費数量、消費額、および需要構造
(5) 世界の半導体フォトリソグラフィ装置の主要生産地域、生産能力、生産量、および前年比成長率
(6) 半導体フォトリソグラフィ装置の産業チェーン（上流、中流、下流）

主要企業別の市場セグメント：本レポートでは以下を網羅
ASML
ニコン
キヤノン
SMEE
露光光源別の市場セグメント：
EUVリソグラフィー
ArFiリソグラフィー
ArFドライリソグラフィー
KrFリソグラフィー
I線リソグラフィー
プロセス別の市場セグメント：
ロジック
メモリ
その他
ウェーハサイズ別の市場セグメント：
300mmウェーハFAB
200mmウェーハFAB
稼働状況別の市場セグメント：
新規リソグラフィシステム
再生／中古リソグラフィシステム
用途別の市場セグメント：
フロントエンドプロセス
バックエンドプロセス
地域別の市場セグメント：
北米（米国、カナダ、メキシコ）
欧州（ドイツ、フランス、英国、ロシア、イタリア、その他欧州諸国）
アジア太平洋（中国、日本、韓国、インド、東南アジア、オーストラリア、およびその他のアジア太平洋地域）
南米（ブラジル、その他の南米諸国）
中東・アフリカ

レポートの内容：
第1章：半導体フォトリソグラフィ装置の製品範囲、世界販売数量、販売額、平均価格、日本における販売数量、販売額、平均価格、開発機会、課題、動向、および政策について記述
第2章：世界の半導体フォトリソグラフィ装置市場における主要メーカーのシェアおよびランキング、販売数量、売上高、平均価格（2021年～2026年）
第3章：日本の半導体フォトリソグラフィ装置市場における主要メーカーのシェアおよびランキング、販売数量、売上高、平均価格（2021年～2026年）
第4章：世界の半導体フォトリソグラフィ装置の主要生産地域、シェアおよびCAGR（2021-2032年）
第5章：半導体フォトリソグラフィ装置の産業チェーン（上流、中流、下流）
第6章：露光光源別セグメント、販売数量、平均価格、消費額、シェアおよびCAGR（2021-2032年）
第7章：用途別セグメント、販売数量、平均価格、消費額、シェアおよびCAGR（2021-2032年）
第8章：地域別セグメント、販売数量、平均価格、消費額、シェアおよびCAGR（2021-2032年）
第9章：国別セグメント、販売数量、平均価格、消費額、割合およびCAGR（2021年～2032年）
第10章：企業プロファイル、市場における主要企業の基本状況を詳細に紹介（製品仕様、用途、最近の動向、販売数量、平均価格、売上高、粗利益率を含む）
第11章：結論

*** レポート目次（コンテンツ）***

1 市場の概要
1.1 半導体フォトリソグラフィ装置の定義
1.2 世界の半導体フォトリソグラフィ装置の市場規模と予測
1.2.1 消費額別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置の市場規模（2021年～2032年）
1.2.2 販売数量別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置の市場規模（2021年～2032年）
1.2.3 世界の半導体フォトリソグラフィ装置の平均販売価格（ASP）、2021-2032年
1.3 日本の半導体フォトリソグラフィ装置市場規模と予測
1.3.1 消費額別、日本の半導体フォトリソグラフィ装置市場規模、2021-2032年
1.3.2 販売数量別、日本の半導体フォトリソグラフィ装置市場規模、2021-2032年
1.3.3 日本の半導体フォトリソグラフィ装置平均販売価格（ASP）、2021-2032年
1.4 世界市場における日本の半導体フォトリソグラフィ装置市場のシェア
1.4.1 消費額別、日本の半導体フォトリソグラフィ装置の世界市場におけるシェア、2021-2032年
1.4.2 販売数量別、日本の半導体フォトリソグラフィ装置の世界市場におけるシェア、2021-2032年
1.4.3 半導体フォトリソグラフィ装置市場規模：日本対世界、2021-2032年
1.5 半導体フォトリソグラフィ装置市場の動向
1.5.1 半導体フォトリソグラフィ装置市場の推進要因
1.5.2 半導体フォトリソグラフィ装置市場の抑制要因
1.5.3 半導体フォトリソグラフィ装置業界のトレンド
1.5.4 半導体フォトリソグラフィ装置業界の政策
2 世界の主要メーカーと市場シェア
2.1 半導体フォトリソグラフィ装置の売上高別、企業別世界市場シェア（2021-2026年）
2.2 半導体フォトリソグラフィ装置の販売数量別、企業別世界市場シェア（2021-2026年）
2.3 半導体フォトリソグラフィ装置の企業別平均販売価格（ASP）（2021-2026年）
2.4 世界の半導体フォトリソグラフィ装置参入企業、市場ポジション（Tier 1、Tier 2、Tier 3）
2.5 世界の半導体フォトリソグラフィ装置の集中度
2.6 世界の半導体フォトリソグラフィ装置のM&A、拡張計画
2.7 世界の半導体フォトリソグラフィ装置メーカーの製品タイプ
2.8 主要メーカーの本社および半導体フォトリソグラフィ装置生産拠点
2.9 主要メーカーの半導体フォトリソグラフィ装置生産能力および将来計画
3 日本の主要メーカーおよび市場シェア
3.1 半導体フォトリソグラフィ装置の売上高別、企業別日本市場シェア（2021年～2026年）
3.2 半導体フォトリソグラフィ装置の販売数量別、企業別日本市場シェア（2021年～2026年）
3.3 日本の半導体フォトリソグラフィ装置市場における主要企業、市場ポジション（Tier 1、Tier 2、Tier 3）
4 世界の生産地域
4.1 世界の半導体フォトリソグラフィ装置の生産能力、生産量および稼働率（2021年～2032年）
4.2 地域別世界の半導体フォトリソグラフィ装置の生産能力
4.3 地域別世界の半導体フォトリソグラフィ装置の生産実績および予測（2021年対2025年対2032年）
4.4 地域別世界半導体フォトリソグラフィ装置生産量（2021年～2032年）
4.5 地域別世界半導体フォトリソグラフィ装置生産市場シェアおよび予測（2021年～2032年）
5 産業チェーン分析
5.1 半導体フォトリソグラフィ装置の産業チェーン
5.2 半導体フォトリソグラフィ装置の上流分析
5.2.1 半導体フォトリソグラフィ装置の主要原材料
5.2.2 半導体フォトリソグラフィ装置の主要原材料の主要メーカー
5.3 中流分析
5.4 下流分析
5.5 半導体フォトリソグラフィ装置の生産モデル
5.6 半導体フォトリソグラフィ装置の調達モデル
5.7 半導体フォトリソグラフィ装置業界の販売モデルおよび販売チャネル
5.7.1 半導体フォトリソグラフィ装置の販売モデル
5.7.2 半導体フォトリソグラフィ装置の代表的な販売代理店
6 半導体フォトリソグラフィ装置市場の分類
6.1 露光光源別半導体フォトリソグラフィ装置の分類
6.1.1 EUVリソグラフィ
6.1.2 ArFiリソグラフィ
6.1.3 ArFドライリソグラフィ
6.1.4 KrFリソグラフィ
6.1.5 I線リソグラフィ
6.1.6 露光光源別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置消費額、2021-2032年
6.1.7 露光光源別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置販売数量、2021-2032年
6.1.8 露光光源別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置平均販売価格（ASP）、2021-2032年
6.2 プロセス別半導体フォトリソグラフィ装置の分類
6.2.1 ロジック
6.2.2 メモリ
6.2.3 その他
6.2.4 プロセス別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置消費額、2021-2032年
6.2.5 プロセス別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置販売数量、2021-2032年
6.2.6 プロセス別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置平均販売価格（ASP）、2021-2032年
6.3 ウェーハサイズ別半導体フォトリソグラフィ装置の分類
6.3.1 300mmウェーハFAB
6.3.2 200mmウェーハFAB
6.3.3 ウェーハサイズ別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置消費額、2021-2032年
6.3.4 ウェーハサイズ別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置販売数量、2021-2032年
6.3.5 ウェーハサイズ別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置平均販売価格（ASP）、2021-2032年
6.4 流通状況別半導体フォトリソグラフィ装置の分類
6.4.1 新規リソグラフィシステム
6.4.2 リファブリッシュ／中古リソグラフィシステム
6.4.3 流通状況別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置消費額、2021-2032年
6.4.4 流通状況別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置販売数量、2021-2032年
6.4.5 流通状況別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置平均販売価格（ASP）、2021-2032年
7 用途別分析
7.1 用途別半導体フォトリソグラフィ装置セグメント
7.1.1 フロントエンドプロセス
7.1.2 バックエンドプロセス
7.2 用途別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置消費額およびCAGR、2021年対2025年対2032年
7.3 用途別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置消費額、2021年～2032年
7.4 用途別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置販売数量、2021年～2032年
7.5 用途別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置価格、2021年～2032年
8 地域別販売動向
8.1 地域別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置消費額、2021年対2025年対2032年
8.2 地域別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置消費額、2021年～2032年
8.3 地域別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置販売数量、2021年～2032年
8.4 北米
8.4.1 北米半導体フォトリソグラフィ装置市場規模および予測、2021年～2032年
8.4.2 国別、北米半導体フォトリソグラフィ装置市場規模および市場シェア
8.5 欧州
8.5.1 欧州の半導体フォトリソグラフィ装置市場規模および予測（2021-2032年）
8.5.2 国別、欧州の半導体フォトリソグラフィ装置市場規模および市場シェア
8.6 アジア太平洋
8.6.1 アジア太平洋の半導体フォトリソグラフィ装置市場規模および予測（2021-2032年）
8.6.2 国・地域別、アジア太平洋地域の半導体フォトリソグラフィ装置市場規模および市場シェア
8.7 南米
8.7.1 南米における半導体フォトリソグラフィ装置の市場規模および予測（2021年～2032年）
8.7.2 国別、南米における半導体フォトリソグラフィ装置の市場規模および市場シェア
8.8 中東・アフリカ
9 国別販売動向
9.1 国別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置市場規模およびCAGR（2021年対2025年対2032年）
9.2 国別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置消費額（2021-2032年）
9.3 国別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置販売数量、2021年～2032年
9.4 米国
9.4.1 米国の半導体フォトリソグラフィ装置市場規模、2021年～2032年
9.4.2 露光光源別、米国の半導体フォトリソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
9.4.3 用途別、米国半導体フォトリソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
9.5 欧州
9.5.1 欧州半導体フォトリソグラフィ装置市場規模、2021-2032年
9.5.2 露光光源別、欧州半導体フォトリソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
9.5.3 用途別、欧州半導体フォトリソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
9.6 中国
9.6.1 中国の半導体フォトリソグラフィ装置市場規模（2021年～2032年）
9.6.2 露光光源別、中国の半導体フォトリソグラフィ装置販売数量の市場シェア（2025年対2032年）
9.6.3 用途別、中国の半導体フォトリソグラフィ装置販売数量の市場シェア（2025年対2032年）
9.7 日本
9.7.1 日本の半導体フォトリソグラフィ装置市場規模（2021年～2032年）
9.7.2 露光光源別、日本の半導体フォトリソグラフィ装置販売数量の市場シェア（2025年対2032年）
9.7.3 用途別、日本の半導体フォトリソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
9.8 韓国
9.8.1 韓国の半導体フォトリソグラフィ装置市場規模、2021年～2032年
9.8.2 露光光源別、韓国半導体フォトリソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
9.8.3 用途別、韓国半導体フォトリソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
9.9 東南アジア
9.9.1 東南アジアの半導体フォトリソグラフィ装置市場規模（2021年～2032年）
9.9.2 露光光源別、東南アジアの半導体フォトリソグラフィ装置販売数量の市場シェア（2025年対2032年）
9.9.3 用途別、東南アジアの半導体フォトリソグラフィ装置販売数量の市場シェア（2025年対2032年）
9.10 インド
9.10.1 インドの半導体フォトリソグラフィ装置市場規模（2021年～2032年）
9.10.2 露光光源別、インドの半導体フォトリソグラフィ装置販売数量の市場シェア（2025年対2032年）
9.10.3 用途別、インドの半導体フォトリソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
9.11 中東・アフリカ
9.11.1 中東・アフリカの半導体フォトリソグラフィ装置市場規模、2021-2032年
9.11.2 露光光源別、中東・アフリカの半導体フォトリソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
9.11.3 用途別、中東・アフリカの半導体フォトリソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
10 メーカー概要
10.1 ASML
10.1.1 ASMLの企業情報、本社所在地、市場エリア、および業界における位置付け
10.1.2 ASMLの半導体フォトリソグラフィ装置のモデル、仕様、および用途
10.1.3 ASMLの半導体フォトリソグラフィ装置の販売数量、売上高、価格、および粗利益率（2021年～2026年）
10.1.4 ASMLの会社概要および主要事業
10.1.5 ASMLの最近の動向
10.2 ニコン
10.2.1 ニコンの会社情報、本社、市場エリア、および業界における位置付け
10.2.2 ニコンの半導体フォトリソグラフィ装置のモデル、仕様、および用途
10.2.3 ニコンの半導体フォトリソグラフィ装置の販売数量、売上高、価格および粗利益率（2021年～2026年）
10.2.4 ニコンの会社概要および主要事業
10.2.5 ニコンの最近の動向
10.3 キヤノン
10.3.1 キヤノンの会社情報、本社、市場エリア、および業界における位置付け
10.3.2 キヤノンの半導体フォトリソグラフィ装置のモデル、仕様、および用途
10.3.3 キヤノンの半導体フォトリソグラフィ装置の販売数量、売上高、価格、および粗利益率（2021年～2026年）
10.3.4 キヤノンの会社概要および主要事業
10.3.5 キヤノンの最近の動向
10.4 SMEE
10.4.1 SMEEの企業情報、本社、市場エリア、および業界における位置付け
10.4.2 SMEEの半導体フォトリソグラフィ装置のモデル、仕様、および用途
10.4.3 SMEEの半導体フォトリソグラフィ装置の販売数量、売上高、価格、および粗利益率（2021年～2026年）
10.4.4 SMEEの会社概要および主要事業
10.4.5 SMEEの最近の動向
11 結論
12 付録
12.1 調査方法
12.2 データソース
12.2.1 二次情報源
12.2.2 一次情報源
12.3 市場推定モデル
12.4 免責事項

表一覧
表1. 半導体フォトリソグラフィ装置の消費額およびCAGR：日本対世界、2021年～2032年、百万米ドル
表2. 半導体フォトリソグラフィ装置市場の阻害要因
表3. 半導体フォトリソグラフィ装置市場の動向
表4. 半導体フォトリソグラフィ装置産業の政策
表5. 世界の半導体フォトリソグラフィ装置の企業別売上高（2021-2026年、百万米ドル）、2025年の売上高に基づく順位
表6. 世界の半導体フォトリソグラフィ装置の企業別売上高シェア（2021-2026年）、2025年のデータに基づく順位
表7. 世界の半導体フォトリソグラフィ装置の販売数量（企業別、2021-2026年、単位：台）、2025年の販売数量に基づく順位
表8. 世界の半導体フォトリソグラフィ装置の販売数量シェア（企業別、2021-2026年）、2025年のデータに基づく順位
表9. 世界の半導体フォトリソグラフィ装置の企業別平均販売価格（ASP）（2021-2026年）（米ドル/台）
表10. 世界の半導体フォトリソグラフィ装置メーカーの市場集中度（CR3およびHHI）
表11. 世界の半導体フォトリソグラフィ装置のM&Aおよび拡張計画
表12. 世界の半導体フォトリソグラフィ装置メーカーの製品タイプ
表13. 主要メーカーの本社および半導体フォトリソグラフィ装置の生産拠点
表14. 主要メーカーの半導体フォトリソグラフィ装置の生産能力および将来計画
表15. 日本の半導体フォトリソグラフィ装置売上高（企業別、2021-2026年、百万米ドル、2025年の売上高に基づく順位）
表16. 日本の半導体フォトリソグラフィ装置売上高シェア（企業別、2021-2026年、2025年のデータに基づく順位）
表17. 日本の半導体フォトリソグラフィ装置の販売数量（2021-2026年、台数）、2025年の販売実績に基づく順位
表18. 日本の半導体フォトリソグラフィ装置の販売数量シェア（2021-2026年）、2025年のデータに基づく順位
表19. 世界の半導体フォトリソグラフィ装置生産台数および地域別予測（2021年対2025年対2032年）（台）
表20. 世界の半導体フォトリソグラフィ装置生産台数（地域別、2021-2026年）（台）
表21. 地域別世界半導体フォトリソグラフィ装置生産予測、2027-2032年（台数）
表22. 半導体フォトリソグラフィ装置の上流（原材料）における世界の主要企業
表23. 半導体フォトリソグラフィ装置の代表的な顧客
表24. 半導体フォトリソグラフィ装置の代表的な販売代理店
表25. 用途別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置消費額およびCAGR、2021年対2025年対2032年、百万米ドル
表26. 地域別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置消費額、2021年対2025年対2032年、百万米ドル
表27. 地域別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置消費額、2021年～2032年、百万米ドル
表28. 地域別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置販売数量、2021年～2032年、（台）
表29. 国別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置消費額およびCAGR、2021年対2025年対2032年、百万米ドル
表30. 国別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置消費額、2021-2032年、百万米ドル
表31. 国別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置消費額市場シェア、2021年～2032年
表32. 国別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置販売数量、2021年～2032年（台数）
表33. 国別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置販売数量市場シェア、2021年～2032年
表34. ASMLの企業情報、本社所在地、市場エリア、および業界における位置付け
表35. ASMLの半導体フォトリソグラフィ装置のモデル、仕様、および用途
表36. ASMLの半導体フォトリソグラフィ装置の販売数量（台数）、売上高（百万米ドル）、単価（米ドル/台）、および粗利益率、2021-2026年
表37. ASMLの会社概要および主な事業
表38. ASMLの最近の動向
表39. ニコンの会社情報、本社所在地、市場エリア、および業界における位置付け
表40. ニコンの半導体フォトリソグラフィ装置のモデル、仕様、および用途
表41. ニコンの半導体フォトリソグラフィ装置の販売数量（台数）、売上高（百万米ドル）、単価（米ドル/台）、および粗利益率（2021年～2026年）
表42. ニコンの会社概要および主要事業
表43. ニコンの最近の動向
表44. キヤノンの会社情報、本社所在地、市場エリア、および業界における位置付け
表45. キヤノンの半導体フォトリソグラフィ装置のモデル、仕様、および用途
表46. キヤノンの半導体フォトリソグラフィ装置の販売数量（台）、売上高（百万米ドル）、単価（米ドル/台）、および粗利益率（2021年～2026年）
表47. キヤノンの会社概要および主要事業
表48. キヤノンの最近の動向
表49. SMEEの企業情報、本社所在地、市場エリア、および業界における位置付け
表50. SMEEの半導体フォトリソグラフィ装置のモデル、仕様、および用途
表51. SMEEの半導体フォトリソグラフィ装置の販売数量（台数）、売上高（百万米ドル）、単価（米ドル/台）、および粗利益率（2021年～2026年）
表52. SMEEの会社概要および主要事業
表53. SMEEの最近の動向

図表一覧
図1. 半導体フォトリソグラフィ装置の画像
図2. 世界の半導体フォトリソグラフィ装置の消費額（百万米ドル）（2021-2032年）
図3. 世界の半導体フォトリソグラフィ装置販売数量（台数）および（2021-2032年）
図4. 世界の半導体フォトリソグラフィ装置平均販売価格（ASP）（2021-2032年）および（米ドル/台）
図5. 日本の半導体フォトリソグラフィ装置の消費額（百万米ドル）および（2021-2032年）
図6. 日本の半導体フォトリソグラフィ装置の販売数量（台）および（2021-2032年）
図7. 日本の半導体フォトリソグラフィ装置の平均販売価格（ASP）（米ドル/台）および（2021-2032年）
図8. 消費額別、日本の半導体フォトリソグラフィ装置の世界市場シェア（2021-2032年）
図9. 販売数量別、日本の半導体フォトリソグラフィ装置の世界市場シェア（2021-2032年）
図10. 企業別（Tier 1、Tier 2、Tier 3）の世界半導体フォトリソグラフィ装置市場シェア（2025年）
図11. 日本の半導体フォトリソグラフィ装置の主要企業および市場シェア（2025年）
図12. 世界の半導体フォトリソグラフィ装置の生産能力、生産量および稼働率、2021-2032年
図13. 世界の半導体フォトリソグラフィ装置の生産能力市場シェア（地域別）、2025年対2032年
図14. 世界の半導体フォトリソグラフィ装置の生産市場シェアおよび予測（地域別）、2021-2032年
図15. 半導体フォトリソグラフィ装置の産業チェーン
図16. 半導体フォトリソグラフィ装置の調達モデル
図17. 半導体フォトリソグラフィ装置の販売モデル
図18. 半導体フォトリソグラフィ装置の販売チャネル、直接販売、および流通
図19. EUVリソグラフィ
図20. ArFiリソグラフィ
図21. ArFドライリソグラフィ
図22. KrFリソグラフィ
図23. I線リソグラフィ
図24. 露光光源別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置消費額、2021-2032年、百万米ドル
図25. 露光光源別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置消費額市場シェア、2021-2032年
図26. 露光光源別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置販売数量、2021-2032年、（台）
図27. 露光光源別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置販売数量市場シェア、2021-2032年
図28. 露光光源別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置平均販売価格（ASP）、2021-2032年、（米ドル/台）
図29. ロジック
図30. メモリ
図31. その他
図32. プロセス別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置消費額、2021-2032年、百万米ドル
図33. プロセス別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置消費額市場シェア、2021-2032年
図34. プロセス別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置販売数量、2021-2032年、（台）
図35. プロセス別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置販売数量市場シェア、2021-2032年
図36. プロセス別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置平均販売価格（ASP）、2021-2032年、（米ドル/台）
図37. 300mmウェーハFAB
図38. 200mmウェーハFAB
図39. ウェーハサイズ別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置消費額、2021-2032年、百万米ドル
図40. ウェーハサイズ別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置消費額市場シェア、2021-2032年
図41. ウェーハサイズ別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置販売数量、2021-2032年、（台）
図42. ウェーハサイズ別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置販売数量市場シェア、2021-2032年
図43. ウェーハサイズ別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置平均販売価格（ASP）、2021-2032年、（米ドル/台）
図44. 新規リソグラフィシステム
図45. リファブリッシュ品／中古リソグラフィシステム
図46. 流通状況別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置消費額、2021-2032年、百万米ドル
図47. 流通状況別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置消費額市場シェア、2021-2032年
図48. 流通状況別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置販売数量、2021-2032年、（台数）
図49. 流通状況別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置販売数量市場シェア、2021-2032年
図50. 流通状況別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置平均販売価格（ASP）、2021-2032年、（米ドル/台）
図51. フロントエンドプロセス
図52. バックエンドプロセス
図53. 用途別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置消費額、2021-2032年、百万米ドル
図54. 用途別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置売上高市場シェア、2021-2032年
図55. 用途別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置販売数量、2021-2032年、（台数）
図56. 用途別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置販売数量市場シェア、2021-2032年
図57. 用途別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置価格、2021-2032年、（米ドル/台）
図58. 地域別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置消費額市場シェア、2021-2032年
図59. 地域別、世界の半導体フォトリソグラフィ装置販売数量市場シェア、2021-2032年
図60. 北米の半導体フォトリソグラフィ装置消費額および予測、2021-2032年、百万米ドル
図61. 国別、北米半導体フォトリソグラフィ装置消費額市場シェア、2025年
図62. 欧州半導体フォトリソグラフィ装置消費額および予測、2021-2032年、百万米ドル
図63. 国別、欧州半導体フォトリソグラフィ装置消費額市場シェア、2025年
図64. アジア太平洋地域の半導体フォトリソグラフィ装置消費額および予測（2021-2032年、百万米ドル）
図65. 国・地域別、アジア太平洋地域の半導体フォトリソグラフィ装置消費額市場シェア（2025年）
図66. 南米地域の半導体フォトリソグラフィ装置消費額および予測（2021-2032年、百万米ドル）
図67. 国別、南米半導体フォトリソグラフィ装置消費額市場シェア、2025年
図68. 中東・アフリカ半導体フォトリソグラフィ装置消費額および予測、2021-2032年、百万米ドル
図69. 米国半導体フォトリソグラフィ装置販売数量、2021-2032年、（台数）
図70. 露光光源別、米国半導体フォトリソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
図71. 用途別、米国半導体フォトリソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
図72. 欧州の半導体フォトリソグラフィ装置販売台数、2021年～2032年（台）
図73. 露光光源別、欧州の半導体フォトリソグラフィ装置販売台数市場シェア、2025年対2032年
図74. 用途別、欧州の半導体フォトリソグラフィ装置販売台数市場シェア、2025年対2032年
図75. 中国の半導体フォトリソグラフィ装置販売台数、2021年～2032年（台）
図76. 露光光源別、中国の半導体フォトリソグラフィ装置販売台数市場シェア、2025年対2032年
図77. 用途別、中国半導体フォトリソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
図78. 日本の半導体フォトリソグラフィ装置販売数量、2021-2032年（台数）
図79. 露光光源別、日本の半導体フォトリソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
図80. 用途別、日本の半導体フォトリソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
図81. 韓国の半導体フォトリソグラフィ装置販売数量、2021-2032年、（台数）
図82. 露光光源別、韓国における半導体フォトリソグラフィ装置販売数量の市場シェア（2025年対2032年）
図83. 用途別、韓国における半導体フォトリソグラフィ装置販売数量の市場シェア（2025年対2032年）
図84. 東南アジアの半導体フォトリソグラフィ装置販売数量、2021-2032年（台数）
図85. 露光光源別、東南アジアの半導体フォトリソグラフィ装置販売数量の市場シェア、2025年対2032年
図86. 用途別、東南アジアの半導体フォトリソグラフィ装置販売数量の市場シェア、2025年対2032年
図87. インドの半導体フォトリソグラフィ装置販売台数、2021-2032年（台）
図88. 露光光源別、インドの半導体フォトリソグラフィ装置販売台数市場シェア、2025年対2032年
図89. 用途別、インドの半導体フォトリソグラフィ装置販売台数市場シェア、2025年対2032年
図90. 中東・アフリカの半導体フォトリソグラフィ装置販売台数、2021-2032年（台）
図91. 露光光源別、中東・アフリカの半導体フォトリソグラフィ装置販売台数市場シェア、2025年対2032年
図92. 用途別、中東・アフリカの半導体フォトリソグラフィ装置販売数量の市場シェア、2025年対2032年
図93. 調査方法論
図94. 一次インタビューの内訳
図95. ボトムアップアプローチ
図96. トップダウンアプローチ

※参考情報

半導体フォトリソグラフィ装置は、半導体製造プロセスにおいて非常に重要な役割を果たします。この装置は、基板上に微細なパターンを形成するために光を利用します。プロセスは、主にフォトレジストと呼ばれる感光性材料を使用して行われ、光を当てることによって化学的に変化させます。これにより、基板に高精度なパターンが転写され、最終的には半導体チップの製造につながります。
フォトリソグラフィ装置にはいくつかの種類があります。一般的には、ステッパーとスキャナーの二つに分類されます。ステッパーは、一度に一つのウエハのエリアにパターンを転写します。これに対して、スキャナーは連続的にウエハを移動させながらパターンを転送します。スキャナーの方が生産性が高く、大規模な半導体製造に向いています。また、最近ではExtreme Ultraviolet (EUV) リソグラフィが注目されており、これは波長が極端に短い光を使用してさらに微細なパターンを実現する技術です。

これらの装置の用途は、主に半導体デバイスの製造に関連しています。具体的には、マイクロプロセッサー、メモリーチップ、センサーデバイスなど、さまざまな電子機器の核心となる部分を作り出します。また、フォトリソグラフィは、ディスプレイ技術や太陽光発電モジュールなど、他の分野でも応用されています。例えば、液晶ディスプレイの制作には、光透過性のパターンを形成するためのフォトリソグラフィが利用されます。

関連技術としては、エッチングや薄膜成長技術が挙げられます。フォトリソグラフィによって形成されたパターンは、次にエッチングプロセスに移行します。このプロセスでは、パターンを基にして不要な材料を除去し、所望の構造を形成します。薄膜成長技術は、新たな材料層を追加するプロセスであり、これによりデバイスの特性を調整します。

また、半導体フォトリソグラフィ装置には、精密な位置合わせ機能や高い解像度が求められます。近年の技術革新により、これらの装置は毎年進化し、より微細なパターンを形成可能になっています。さらに、製造効率を向上させるための自動化技術も進展しています。これにより、人手によるエラーを減少させ、コスト削減に寄与しています。

現在、グローバルな半導体市場は急速に成長しており、それに伴いフォトリソグラフィ装置の需要も増加しています。多くの企業が高度な技術を取り入れて、新しいリソグラフィ装置の開発に取り組んでいます。日本を含むアジア地域は、半導体製造の重要な拠点となっており、そこにおけるフォトリソグラフィの技術は特に注目されています。

さらに、持続可能な製造プロセスという観点からも、フォトリソグラフィ技術は進化しています。環境への配慮が求められる中、エネルギー効率や材料効率の向上が求められています。これに応じて、低消費エネルギーのプロセスやリサイクル可能な材料を使用する技術の開発も進んでいます。

以上のように、半導体フォトリソグラフィ装置は、半導体製造に不可欠な技術として広範な応用があり、関連技術や市場の動向によって常に進化し続けています。これからの未来においても、その役割はますます重要となることでしょう。半導体業界の競争が激化する中、最新のフォトリソグラフィ技術の開発が、より高性能なデバイスや新しい応用分野を生み出す基盤となるのです。

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半導体フォトリソグラフィ装置の世界及び日本市場2026年：露光光源別（EUVリソグラフィ、ArFiリソグラフィ、ArFドライリソグラフィ、KrFリソグラフィ、I線リソグラフィ）

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