ウェーハ加工装置のグローバル市場(2021-2031):デポジット、エッチ、マスメトロ、ストリップ、クリーン

■ 英語タイトル:Wafer Processing Equipment Market By Process (Depositon, Etch, Mass Metrology, Strip and Clean), By  Application (Dicing, Grinding and Probing, Polishing, Edge Shaping, Cleaning), By End User (Computer, Communication, Consumer, Industrial, Others): Global Opportunity Analysis and Industry Forecast, 2021-2031

調査会社Allied Market Research社が発行したリサーチレポート(データ管理コード:ALD23FB006)■ 発行会社/調査会社:Allied Market Research
■ 商品コード:ALD23FB006
■ 発行日:2022年10月
   最新版(2025年又は2026年)はお問い合わせください。
■ 調査対象地域:グローバル
■ 産業分野:建築&製造
■ ページ数:218
■ レポート言語:英語
■ レポート形式:PDF
■ 納品方式:Eメール(受注後24時間以内)
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*** レポート概要(サマリー)***

Allied Market Research社の本調査レポートは、世界のウェーハ加工装置市場規模が2021年8521百万ドルから2031年14416.1百万ドルに達し、2022年から2031年まで年平均5.3%成長すると予測しています。本レポートは、ウェーハ加工装置の世界市場を広く調査し、イントロダクション、エグゼクティブサマリー、市場概要、プロセス別(デポジット、エッチ、マスメトロ、ストリップ&クリーン)分析、用途別(グラインド&プロービングダイシング、ポリッシング、エッジシェイプ、クリーニング、ダイシング)分析、エンドユーザー別(コンピュータ、通信、家電、工業、その他)分析、地域別(北米、ヨーロッパ、アジア太平洋、中南米・中東・アフリカ)分析、企業状況などの情報を掲載しています。また、本書には、Tokyo Electron Limited、Lam Research Corporation、Applied Materials, Inc.、Spts technologies ltd.、Plasma- Therm、Nikon Corporation、KLA Corporation、DISCO、Motorola Solutions, Inc.、Hitachi kokusai linearなどの企業情報が含まれています。
・イントロダクション
・エグゼクティブサマリー
・市場概要
・世界のウェーハ加工装置市場規模:プロセス別
- デポジットの市場規模
- エッチの市場規模
- マスメトロの市場規模
- ストリップ&クリーンの市場規模
・世界のウェーハ加工装置市場規模:用途別
- グラインド&プロービングダイシングにおける市場規模
- ポリッシングにおける市場規模
- エッジシェイプにおける市場規模
- クリーニングにおける市場規模
- ダイシングにおける市場規模
・世界のウェーハ加工装置市場規模:エンドユーザー別
- コンピュータにおける市場規模
- 通信における市場規模
- 家電における市場規模
- 工業における市場規模
- その他エンドユーザーにおける市場規模
・世界のウェーハ加工装置市場規模:地域別
- 北米のウェーハ加工装置市場規模
- ヨーロッパのウェーハ加工装置市場規模
- アジア太平洋のウェーハ加工装置市場規模
- 中南米・中東・アフリカのウェーハ加工装置市場規模
・企業状況
・企業情報

世界のウェーハ加工装置市場は、2021年に85億2,100万ドル、2031年には144億1,610万ドルに達すると予測され、2022年から2031年までのCAGRは5.3%となる見込みです。
ウェーハ加工には、形成、テクスチャリング、洗浄、ダイシング、エッチングなどのアクティビティが含まれます。ウェーハのテクスチャリングは、ウェーハの用途に応じて行われます。このようなタスクを実行するために使用される装置は、ウェーハ加工装置として知られています。
ウェーハ加工装置の需要は、様々な電子機器にウェーハを多用することによるもので、そのペースはますます速くなっています。また、ウェーハ製造のための原材料の低コスト化は、ウェーハ加工装置の採用を後押しするそのようなコンポーネントの価格の低下につながります。

しかし、米中戦争により、北米の電子製品製造に深刻な影響が及んでいます。一方、無駄のない電子ガジェットを設計するための軽量電子部品の進化は、市場の新たな始まりを提供することが期待されています。

ウェーハ加工装置市場は、プロセス、用途、エンドユーザー、地域によって区分されます。プロセス別では、ウェーハ処理装置市場は蒸着、エッチング、質量計測、ストリップ&クリーンに分類されます。用途別では、ダイシング、グラインディング&プロービング、ポリッシング、エッジシェイピング、クリーニングに分類されます。エンドユーザー別では、コンピュータ、通信、消費者、工業、その他に分類されます。地域別では、北米(米国、カナダ、メキシコ)、欧州(ドイツ、英国、フランス、イタリア、その他欧州)、アジア太平洋(中国、インド、日本、韓国、その他アジア太平洋)、LAMEA(中南米、中東、アフリカ)に市場を分けて分析しています。

ウェーハ加工装置市場レポートに掲載されている主要企業には、Applied Materials, Inc、株式会社ディスコ、Hitachi kokusai linear、KLA Corporation、Lam Research Corporation、Motorola Solutions, Inc. 株式会社ニコン、Plasma-Therm、SPTS technologies Ltd、東京エレクトロン株式会社などです。

ステークホルダーにとっての主なメリット
・この調査レポートは、世界のウェーハ加工装置市場を詳細に分析し、現在の動向と将来予測を提供することで、差し迫った投資ポケットを明らかにします。
・市場成長の促進要因と制限要因の包括的な分析を提供します。
・2021年から2031年までの業界の包括的な定量分析を提供し、利害関係者が優勢な市場機会を活用できるようにします。
・市場の競争展望を理解するために、主要な市場プレイヤーとその戦略を分析しています。

〈主要市場セグメント〉
プロセス別
デポジトン
エッチング
マスメトロロジー
ストリップ&クリーン

用途別
研削&プロービング
研磨
エッジシェイプ
クリーニング
ダイシング

エンドユーザー別
コンピュータ
通信
消費者
工業
その他

地域別
・北米
米国
カナダ
メキシコ
・ヨーロッパ
ドイツ
フランス
イギリス
イタリア
その他のヨーロッパ
・アジア太平洋
中国
日本
韓国
インド
その他のアジア太平洋地域
・LAMEA
ラテンアメリカ
中東
アフリカ

〈主要市場プレイヤー〉
東京エレクトロン株式会社
Lam Research Corporation
Applied Materials, Inc.
Spts technologies ltd.
Plasma- Therm
株式会社ニコン
KLA Corporation
株式会社ディスコ
Motorola Solutions, Inc.
Hitachi kokusai linear(日立国際電気グループ)

世界の市場調査レポート販売サイト(H&Iグローバルリサーチ株式会社運営)
*** レポート目次(コンテンツ)***

第1章:はじめに
1.1. レポートの概要
1.2. 主要市場セグメント
1.3. ステークホルダーにとっての主なメリット
1.4. 調査方法
1.4.1. 二次調査
1.4.2. 一次調査
1.4.3. アナリストツールとモデル
第2章:エグゼクティブサマリー
2.1. 調査の主な知見
2.2. CXOの視点
第3章:市場概要
3.1. 市場の定義と範囲
3.2. 主な知見
3.2.1. 主要投資先
3.3. ポーターの5つの力分析
3.4. 主要プレーヤーのポジショニング
3.5. 市場ダイナミクス
3.5.1. 推進要因
3.5.2. 制約要因
3.5.3. 機会
3.6. COVID-19による市場への影響分析
第4章:ウエハープロセス装置市場(プロセス別)
4.1 概要
4.1.1 市場規模と予測
4.2 成膜
4.2.1 主要市場動向、成長要因、機会
4.2.2 地域別市場規模と予測
4.2.3 国別市場シェア分析
4.3 エッチング
4.3.1 主要市場動向、成長要因、機会
4.3.2 地域別市場規模と予測
4.3.3 国別市場シェア分析
4.4 質量計測
4.4.1 主要市場動向、成長要因、機会
4.4.2 地域別市場規模と予測
4.4.3 国別市場シェア分析
4.5 ストリップ&クリーニング
4.5.1 主要市場動向、成長要因、機会
4.5.2 地域別市場規模と予測
4.5.3 国別市場シェア分析
第5章:ウェーハプロセス装置市場(アプリケーション別)
5.1概要
5.1.1 市場規模と予測
5.2 ダイシング
5.2.1 主要市場動向、成長要因、機会
5.2.2 地域別市場規模と予測
5.2.3 国別市場シェア分析
5.3 研削およびプロービング
5.3.1 主要市場動向、成長要因、機会
5.3.2 地域別市場規模と予測
5.3.3 国別市場シェア分析
5.4 研磨
5.4.1 主要市場動向、成長要因、機会
5.4.2 地域別市場規模と予測
5.4.3 国別市場シェア分析
5.5 エッジシェーピング
5.5.1 主要市場動向、成長要因、機会
5.5.2 地域別市場規模と予測
5.5.3 国別市場シェア分析
5.6 クリーニング
5.6.1 主要市場動向、成長要因、機会
5.6.2 地域別市場規模と予測
5.6.3 国別市場シェア分析
第6章:ウェーハプロセス機器市場(エンドユーザー別)
6.1 概要
6.1.1 市場規模と予測
6.2 コンピュータ
6.2.1 主要な市場動向、成長要因、機会
6.2.2 地域別の市場規模と予測
6.2.3 国別の市場シェア分析
6.3 通信
6.3.1 主要な市場動向、成長要因、機会
6.3.2 地域別の市場規模と予測
6.3.3 国別の市場シェア分析
6.4 コンシ​​ューマー
6.4.1 主要な市場動向、成長要因、機会
6.4.2 地域別の市場規模と予測
6.4.3 国別の市場シェア分析
6.5 産業用
6.5.1 主要な市場動向、成長要因、機会
6.5.2 地域別の市場規模と予測
6.5.3 国別の市場シェア分析
6.6 その他
6.6.1 主要な市場動向、成長要因、機会
6.6.2 地域別の市場規模と予測
6.6.3 市場シェア国別分析
第7章:ウェーハ処理装置市場(地域別)
7.1 概要
7.1.1 市場規模と予測
7.2 北米
7.2.1 主要トレンドと機会
7.2.2 北米市場規模と予測(プロセス別)
7.2.3 北米市場規模と予測(アプリケーション別)
7.2.4 北米市場規模と予測(エンドユーザー別)
7.2.5 北米市場規模と予測(国別)
7.2.5.1 米国
7.2.5.1.1 主要市場トレンド、成長要因、機会
7.2.5.1.2 市場規模と予測(プロセス別)
7.2.5.1.3 市場規模と予測(アプリケーション別)
7.2.5.1.4 市場規模と予測(エンドユーザー別)
7.2.5.2 カナダ
7.2.5.2.1 主要市場トレンド、成長要因、機会
7.2.5.2.2 市場プロセス別の市場規模と予測
7.2.5.2.3 アプリケーション別の市場規模と予測
7.2.5.2.4 エンドユーザー別の市場規模と予測
7.2.5.3 メキシコ
7.2.5.3.1 主要な市場動向、成長要因、機会
7.2.5.3.2 プロセス別の市場規模と予測
7.2.5.3.3 アプリケーション別の市場規模と予測
7.2.5.3.4 エンドユーザー別の市場規模と予測
7.3 ヨーロッパ
7.3.1 主要な動向と機会
7.3.2 プロセス別のヨーロッパ市場規模と予測
7.3.3 アプリケーション別のヨーロッパ市場規模と予測
7.3.4 エンドユーザー別のヨーロッパ市場規模と予測
7.3.5 国別のヨーロッパ市場規模と予測
7.3.5.1 ドイツ
7.3.5.1.1 主要な市場動向、成長要因、機会
7.3.5.1.2 プロセス別の市場規模と予測プロセス
7.3.5.1.3 市場規模と予測(アプリケーション別)
7.3.5.1.4 市場規模と予測(エンドユーザー別)
7.3.5.2 フランス
7.3.5.2.1 主要な市場動向、成長要因、機会
7.3.5.2.2 市場規模と予測(プロセス別)
7.3.5.2.3 市場規模と予測(アプリケーション別)
7.3.5.2.4 市場規模と予測(エンドユーザー別)
7.3.5.3 英国
7.3.5.3.1 主要な市場動向、成長要因、機会
7.3.5.3.2 市場規模と予測(プロセス別)
7.3.5.3.3 市場規模と予測(アプリケーション別)
7.3.5.3.4 市場規模と予測(エンドユーザー別)
7.3.5.4 イタリア
7.3.5.4.1 主要な市場動向、成長要因、機会
7.3.5.4.2 市場規模と予測(プロセス
7.3.5.4.3 市場規模と予測(アプリケーション別)
7.3.5.4.4 市場規模と予測(エンドユーザー別)
7.3.5.5 その他のヨーロッパ
7.3.5.5.1 主要な市場動向、成長要因、機会
7.3.5.5.2 市場規模と予測(プロセス別)
7.3.5.5.3 市場規模と予測(アプリケーション別)
7.3.5.5.4 市場規模と予測(エンドユーザー別)
7.4 アジア太平洋地域
7.4.1 主要な動向と機会
7.4.2 アジア太平洋地域の市場規模と予測(プロセス別)
7.4.3 アジア太平洋地域の市場規模と予測(アプリケーション別)
7.4.4 アジア太平洋地域の市場規模と予測(エンドユーザー別)
7.4.5 アジア太平洋地域の市場規模と予測(国別)
7.4.5.1 中国
7.4.5.1.1 主要な市場動向、成長要因、機会
7.4.5.1.2 プロセス別の市場規模と予測
7.4.5.1.3 アプリケーション別の市場規模と予測
7.4.5.1.4 エンドユーザー別の市場規模と予測
7.4.5.2 日本
7.4.5.2.1 主要な市場動向、成長要因、機会
7.4.5.2.2 プロセス別の市場規模と予測
7.4.5.2.3 アプリケーション別の市場規模と予測
7.4.5.2.4 エンドユーザー別の市場規模と予測
7.4.5.3 韓国
7.4.5.3.1 主要な市場動向、成長要因、機会
7.4.5.3.2 プロセス別の市場規模と予測
7.4.5.3.3 アプリケーション別の市場規模と予測
7.4.5.3.4 エンドユーザー別の市場規模と予測
7.4.5.4 インド
7.4.5.4.1 主要な市場動向、成長要因、機会
7.4.5.4.2 プロセス別市場規模と予測
7.4.5.4.3 アプリケーション別市場規模と予測
7.4.5.4.4 エンドユーザー別市場規模と予測
7.4.5.5 その他アジア太平洋地域
7.4.5.5.1 主要な市場動向、成長要因、機会
7.4.5.5.2 プロセス別市場規模と予測
7.4.5.5.3 アプリケーション別市場規模と予測
7.4.5.5.4 エンドユーザー別市場規模と予測
7.5 LAMEA
7.5.1 主要な動向と機会
7.5.2 プロセス別LAMEA市場規模と予測
7.5.3 アプリケーション別LAMEA市場規模と予測
7.5.4 エンドユーザー別LAMEA市場規模と予測
7.5.5 国別LAMEA市場規模と予測
7.5.5.1 ラテンアメリカアメリカ
7.5.5.1.1 主要市場動向、成長要因、機会
7.5.5.1.2 プロセス別市場規模と予測
7.5.5.1.3 アプリケーション別市場規模と予測
7.5.5.1.4 エンドユーザー別市場規模と予測
7.5.5.2 中東
7.5.5.2.1 主要市場動向、成長要因、機会
7.5.5.2.2 プロセス別市場規模と予測
7.5.5.2.3 アプリケーション別市場規模と予測
7.5.5.2.4 エンドユーザー別市場規模と予測
7.5.5.3 アフリカ
7.5.5.3.1 主要市場動向、成長要因、機会
7.5.5.3.2 プロセス別市場規模と予測
7.5.5.3.3 アプリケーション別市場規模と予測
7.5.5.3.4 エンドユーザー別市場規模と予測
第8章:企業ランドスケープ
8.1. はじめに
8.2. 主要な勝利戦略
8.3. 上位10社の製品マッピング
8.4. 競合ダッシュボード
8.5. 競合ヒートマップ
8.6.主要動向
第9章:企業概要
9.1 東京エレクトロン株式会社
9.1.1 会社概要
9.1.2 会社概要
9.1.3 事業セグメント
9.1.4 製品ポートフォリオ
9.1.5 業績
9.1.6 主要な戦略的動向と展開
9.2 ラムリサーチ株式会社
9.2.1 会社概要
9.2.2 会社概要
9.2.3 事業セグメント
9.2.4 製品ポートフォリオ
9.2.5 業績
9.2.6 主要な戦略的動向と展開
9.3 アプライドマテリアルズ株式会社
9.3.1 会社概要
9.3.2 会社概要
9.3.3 事業セグメント
9.3.4 製品ポートフォリオ
9.3.5 業績
9.3.6 主要な戦略的動向と展開
9.4 SPTSテクノロジーズ株式会社
9.4.1 会社概要
9.4.2 会社概要
9.4.3 事業セグメントセグメント
9.4.4 製品ポートフォリオ
9.4.5 業績
9.4.6 主要な戦略的動きと展開
9.5 プラズマサーモ
9.5.1 会社概要
9.5.2 会社概要
9.5.3 事業セグメント
9.5.4 製品ポートフォリオ
9.5.5 業績
9.5.6 主要な戦略的動きと展開
9.6 株式会社ニコン
9.6.1 会社概要
9.6.2 会社概要
9.6.3 事業セグメント
9.6.4 製品ポートフォリオ
9.6.5 業績
9.6.6 主要な戦略的動きと展開
9.7 KLA株式会社
9.7.1 会社概要
9.7.2 会社概要
9.7.3 事業セグメント
9.7.4 製品ポートフォリオ
9.7.5 業績
9.7.6 主要な戦略的動きと展開
9.8 ディスコ
9.8.1 会社概要
9.8.2 会社概要
9.8.3 事業セグメントセグメント
9.8.4 製品ポートフォリオ
9.8.5 業績
9.8.6 主要な戦略的動きと展開
9.9 モトローラソリューションズ株式会社
9.9.1 会社概要
9.9.2 会社概要
9.9.3 事業セグメント
9.9.4 製品ポートフォリオ
9.9.5 業績
9.9.6 主要な戦略的動きと展開
9.10 日立国際リニア
9.10.1 会社概要
9.10.2 会社概要
9.10.3 事業セグメント
9.10.4 製品ポートフォリオ
9.10.5 業績
9.10.6 主要な戦略的動きと展開

CHAPTER 1:INTRODUCTION
1.1.Report description
1.2.Key market segments
1.3.Key benefits to the stakeholders
1.4.Research Methodology
1.4.1.Secondary research
1.4.2.Primary research
1.4.3.Analyst tools and models
CHAPTER 2:EXECUTIVE SUMMARY
2.1.Key findings of the study
2.2.CXO Perspective
CHAPTER 3:MARKET OVERVIEW
3.1.Market definition and scope
3.2.Key findings
3.2.1.Top investment pockets
3.3.Porter’s five forces analysis
3.4.Top player positioning
3.5.Market dynamics
3.5.1.Drivers
3.5.2.Restraints
3.5.3.Opportunities
3.6.COVID-19 Impact Analysis on the market
CHAPTER 4: WAFER PROCESSING EQUIPMENT MARKET, BY PROCESS
4.1 Overview
4.1.1 Market size and forecast
4.2 Depositon
4.2.1 Key market trends, growth factors and opportunities
4.2.2 Market size and forecast, by region
4.2.3 Market share analysis by country
4.3 Etch
4.3.1 Key market trends, growth factors and opportunities
4.3.2 Market size and forecast, by region
4.3.3 Market share analysis by country
4.4 Mass Metrology
4.4.1 Key market trends, growth factors and opportunities
4.4.2 Market size and forecast, by region
4.4.3 Market share analysis by country
4.5 Strip and Clean
4.5.1 Key market trends, growth factors and opportunities
4.5.2 Market size and forecast, by region
4.5.3 Market share analysis by country
CHAPTER 5: WAFER PROCESSING EQUIPMENT MARKET, BY  APPLICATION
5.1 Overview
5.1.1 Market size and forecast
5.2 Dicing
5.2.1 Key market trends, growth factors and opportunities
5.2.2 Market size and forecast, by region
5.2.3 Market share analysis by country
5.3 Grinding and Probing
5.3.1 Key market trends, growth factors and opportunities
5.3.2 Market size and forecast, by region
5.3.3 Market share analysis by country
5.4 Polishing
5.4.1 Key market trends, growth factors and opportunities
5.4.2 Market size and forecast, by region
5.4.3 Market share analysis by country
5.5 Edge Shaping
5.5.1 Key market trends, growth factors and opportunities
5.5.2 Market size and forecast, by region
5.5.3 Market share analysis by country
5.6 Cleaning
5.6.1 Key market trends, growth factors and opportunities
5.6.2 Market size and forecast, by region
5.6.3 Market share analysis by country
CHAPTER 6: WAFER PROCESSING EQUIPMENT MARKET, BY END USER
6.1 Overview
6.1.1 Market size and forecast
6.2 Computer
6.2.1 Key market trends, growth factors and opportunities
6.2.2 Market size and forecast, by region
6.2.3 Market share analysis by country
6.3 Communication
6.3.1 Key market trends, growth factors and opportunities
6.3.2 Market size and forecast, by region
6.3.3 Market share analysis by country
6.4 Consumer
6.4.1 Key market trends, growth factors and opportunities
6.4.2 Market size and forecast, by region
6.4.3 Market share analysis by country
6.5 Industrial
6.5.1 Key market trends, growth factors and opportunities
6.5.2 Market size and forecast, by region
6.5.3 Market share analysis by country
6.6 Others
6.6.1 Key market trends, growth factors and opportunities
6.6.2 Market size and forecast, by region
6.6.3 Market share analysis by country
CHAPTER 7: WAFER PROCESSING EQUIPMENT MARKET, BY REGION
7.1 Overview
7.1.1 Market size and forecast
7.2 North America
7.2.1 Key trends and opportunities
7.2.2 North America Market size and forecast, by Process
7.2.3 North America Market size and forecast, by  Application
7.2.4 North America Market size and forecast, by End User
7.2.5 North America Market size and forecast, by country
7.2.5.1 U.S.
7.2.5.1.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.2.5.1.2 Market size and forecast, by Process
7.2.5.1.3 Market size and forecast, by  Application
7.2.5.1.4 Market size and forecast, by End User
7.2.5.2 Canada
7.2.5.2.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.2.5.2.2 Market size and forecast, by Process
7.2.5.2.3 Market size and forecast, by  Application
7.2.5.2.4 Market size and forecast, by End User
7.2.5.3 Mexico
7.2.5.3.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.2.5.3.2 Market size and forecast, by Process
7.2.5.3.3 Market size and forecast, by  Application
7.2.5.3.4 Market size and forecast, by End User
7.3 Europe
7.3.1 Key trends and opportunities
7.3.2 Europe Market size and forecast, by Process
7.3.3 Europe Market size and forecast, by  Application
7.3.4 Europe Market size and forecast, by End User
7.3.5 Europe Market size and forecast, by country
7.3.5.1 Germany
7.3.5.1.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.3.5.1.2 Market size and forecast, by Process
7.3.5.1.3 Market size and forecast, by  Application
7.3.5.1.4 Market size and forecast, by End User
7.3.5.2 France
7.3.5.2.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.3.5.2.2 Market size and forecast, by Process
7.3.5.2.3 Market size and forecast, by  Application
7.3.5.2.4 Market size and forecast, by End User
7.3.5.3 UK
7.3.5.3.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.3.5.3.2 Market size and forecast, by Process
7.3.5.3.3 Market size and forecast, by  Application
7.3.5.3.4 Market size and forecast, by End User
7.3.5.4 Italy
7.3.5.4.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.3.5.4.2 Market size and forecast, by Process
7.3.5.4.3 Market size and forecast, by  Application
7.3.5.4.4 Market size and forecast, by End User
7.3.5.5 Rest of Europe
7.3.5.5.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.3.5.5.2 Market size and forecast, by Process
7.3.5.5.3 Market size and forecast, by  Application
7.3.5.5.4 Market size and forecast, by End User
7.4 Asia-Pacific
7.4.1 Key trends and opportunities
7.4.2 Asia-Pacific Market size and forecast, by Process
7.4.3 Asia-Pacific Market size and forecast, by  Application
7.4.4 Asia-Pacific Market size and forecast, by End User
7.4.5 Asia-Pacific Market size and forecast, by country
7.4.5.1 China
7.4.5.1.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.4.5.1.2 Market size and forecast, by Process
7.4.5.1.3 Market size and forecast, by  Application
7.4.5.1.4 Market size and forecast, by End User
7.4.5.2 Japan
7.4.5.2.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.4.5.2.2 Market size and forecast, by Process
7.4.5.2.3 Market size and forecast, by  Application
7.4.5.2.4 Market size and forecast, by End User
7.4.5.3 South Korea
7.4.5.3.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.4.5.3.2 Market size and forecast, by Process
7.4.5.3.3 Market size and forecast, by  Application
7.4.5.3.4 Market size and forecast, by End User
7.4.5.4 India
7.4.5.4.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.4.5.4.2 Market size and forecast, by Process
7.4.5.4.3 Market size and forecast, by  Application
7.4.5.4.4 Market size and forecast, by End User
7.4.5.5 Rest of Asia-Pacific
7.4.5.5.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.4.5.5.2 Market size and forecast, by Process
7.4.5.5.3 Market size and forecast, by  Application
7.4.5.5.4 Market size and forecast, by End User
7.5 LAMEA
7.5.1 Key trends and opportunities
7.5.2 LAMEA Market size and forecast, by Process
7.5.3 LAMEA Market size and forecast, by  Application
7.5.4 LAMEA Market size and forecast, by End User
7.5.5 LAMEA Market size and forecast, by country
7.5.5.1 Latin America
7.5.5.1.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.5.5.1.2 Market size and forecast, by Process
7.5.5.1.3 Market size and forecast, by  Application
7.5.5.1.4 Market size and forecast, by End User
7.5.5.2 Middle East
7.5.5.2.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.5.5.2.2 Market size and forecast, by Process
7.5.5.2.3 Market size and forecast, by  Application
7.5.5.2.4 Market size and forecast, by End User
7.5.5.3 Africa
7.5.5.3.1 Key market trends, growth factors and opportunities
7.5.5.3.2 Market size and forecast, by Process
7.5.5.3.3 Market size and forecast, by  Application
7.5.5.3.4 Market size and forecast, by End User
CHAPTER 8: COMPANY LANDSCAPE
8.1. Introduction
8.2. Top winning strategies
8.3. Product Mapping of Top 10 Player
8.4. Competitive Dashboard
8.5. Competitive Heatmap
8.6. Key developments
CHAPTER 9: COMPANY PROFILES
9.1 Tokyo Electron Limited
9.1.1 Company overview
9.1.2 Company snapshot
9.1.3 Operating business segments
9.1.4 Product portfolio
9.1.5 Business performance
9.1.6 Key strategic moves and developments
9.2 Lam Research Corporation
9.2.1 Company overview
9.2.2 Company snapshot
9.2.3 Operating business segments
9.2.4 Product portfolio
9.2.5 Business performance
9.2.6 Key strategic moves and developments
9.3 Applied Materials, Inc.
9.3.1 Company overview
9.3.2 Company snapshot
9.3.3 Operating business segments
9.3.4 Product portfolio
9.3.5 Business performance
9.3.6 Key strategic moves and developments
9.4 spts technologies ltd
9.4.1 Company overview
9.4.2 Company snapshot
9.4.3 Operating business segments
9.4.4 Product portfolio
9.4.5 Business performance
9.4.6 Key strategic moves and developments
9.5 plasma-therm
9.5.1 Company overview
9.5.2 Company snapshot
9.5.3 Operating business segments
9.5.4 Product portfolio
9.5.5 Business performance
9.5.6 Key strategic moves and developments
9.6 Nikon Corporation
9.6.1 Company overview
9.6.2 Company snapshot
9.6.3 Operating business segments
9.6.4 Product portfolio
9.6.5 Business performance
9.6.6 Key strategic moves and developments
9.7 KLA Corporation
9.7.1 Company overview
9.7.2 Company snapshot
9.7.3 Operating business segments
9.7.4 Product portfolio
9.7.5 Business performance
9.7.6 Key strategic moves and developments
9.8 DISCO
9.8.1 Company overview
9.8.2 Company snapshot
9.8.3 Operating business segments
9.8.4 Product portfolio
9.8.5 Business performance
9.8.6 Key strategic moves and developments
9.9 Motorola Solutions, Inc.
9.9.1 Company overview
9.9.2 Company snapshot
9.9.3 Operating business segments
9.9.4 Product portfolio
9.9.5 Business performance
9.9.6 Key strategic moves and developments
9.10 hitachi kokusai linear
9.10.1 Company overview
9.10.2 Company snapshot
9.10.3 Operating business segments
9.10.4 Product portfolio
9.10.5 Business performance
9.10.6 Key strategic moves and developments
※参考情報

ウェーハ加工装置は、半導体製造プロセスにおいて使用される重要な機器です。半導体デバイスの基本的な構成要素であるシリコンウェーハを処理するために設計されています。この装置は、半導体素子の製造される過程で必要な様々な工程を行うためのもので、主にエッチング、成膜、リソグラフィ、洗浄などのプロセスで使用されます。
ウェーハ加工装置の種類は多岐にわたりますが、主なものとしては、フォトリソグラフィ装置、エッチング装置、成膜装置、洗浄装置、ダイシング装置、測定装置などがあります。フォトリソグラフィ装置は、光を用いてウェーハ上に回路パターンを転写する役割を果たします。このプロセスでは、感光性材料を使用してウェーハをコートし、パターンを形成します。次に、エッチング装置によって不要な材料が除去され、最終的に所望の回路がデバイス上に構築されます。

成膜装置は、ウェーハ上に薄膜を形成するために使用される機械です。主な成膜技術には、化学気相成長(CVD)や物理気相成長(PVD)があり、異なる材料特性や用途に応じた膜厚と均一性を実現します。洗浄装置は、ウェーハの表面を清浄に保つために不可欠で、特に微細な汚染物質を除去するための専用の薬品やプロセスを用います。

ダイシング装置は、完成したウェーハを個別の半導体チップに切り分けるために使用されます。このプロセスでは、薄い刃によってウェーハに切込みを入れ、最終的に所望のサイズに分割します。また、測定装置はウェーハの物理的特性や電気的特性を評価するために使用される重要な器具であり、製品の品質管理やプロセスの最適化に役立ちます。

ウェーハ加工装置の用途は、主に半導体デバイスの製造に限らず、さまざまな分野に広がっています。たとえば、自動車産業、通信機器、医療機器など、電子機器が必要とされる多くの分野で使用されており、日常生活に欠かせないテクノロジーの基盤を支えています。特に、IoT(モノのインターネット)やAI(人工知能)の普及に伴い、より高度な半導体デバイスへの需要が高まっており、その結果としてウェーハ加工装置の進化も促されています。

関連技術としては、ナノテクノロジー、材料科学、高度な自動化技術があります。ナノテクノロジーは、微細な構造を形成するために不可欠な技術であり、ウェーハ加工の精度を向上させることができます。また、材料科学の進展により、新しい材料や技術の開発が進められ、これにより性能が向上した新たな半導体デバイスの製造が可能となっています。さらに、高度な自動化技術やAIによるプロセス解析は、ウェーハ加工装置の効率性と生産性を大幅に向上させるために重要です。

ウェーハ加工装置は、半導体製造プロセスの中心でもあり、技術革新の影響を大きく受ける分野です。今後も、様々な技術の進化が期待されており、より高性能で効率的な装置が求められるでしょう。このように、ウェーハ加工装置は半導体産業の発展を支える重要な要素であり、その理解と研究は今後の技術革新に欠かせないものとなります。


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※注目の調査資料
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※当市場調査資料(ALD23FB006 )"ウェーハ加工装置のグローバル市場(2021-2031):デポジット、エッチ、マスメトロ、ストリップ、クリーン" (英文:Wafer Processing Equipment Market By Process (Depositon, Etch, Mass Metrology, Strip and Clean), By  Application (Dicing, Grinding and Probing, Polishing, Edge Shaping, Cleaning), By End User (Computer, Communication, Consumer, Industrial, Others): Global Opportunity Analysis and Industry Forecast, 2021-2031)はAllied Market Research社が調査・発行しており、H&Iグローバルリサーチが販売します。


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