カテゴリ： YH Research, 世界

リソグラフィ装置の世界及び日本市場2026年：露光光源別（EUVリソグラフィシステム、ArFiリソグラフィシステム、ArFドライリソグラフィシステム、KrFリソグラフィシステム、I線リソグラフィシステム、FPDリソグラフィシステム）

■ 英語タイトル：Lithography Equipment - Global Top Players Market Share and Ranking 2026
	■ 発行会社/調査会社：YH Research ■ 商品コード：YHR26MY5111 ■ 発行日：2026年5月 ■ 調査対象地域：グローバル ■ 産業分野：電子・半導体 ■ ページ数：93 ■ レポート言語：英語 ■ レポート形式：PDF ■ 納品方式：Eメール

■ 販売価格オプション（消費税別）

Single User（1名様閲覧用）	USD3,060 ⇒換算￥465,120	見積依頼/購入/質問フォーム
Multi User（5名様閲覧用）	USD4,590 ⇒換算￥697,680	見積依頼/購入/質問フォーム
Corporate User（閲覧人数無制限）	USD6,120 ⇒換算￥930,240	見積依頼/購入/質問フォーム

※日本語翻訳版も取り扱っております。日本語版のSingle Userライセンスの価格は￥617,120(税別)で納期は受注後8～10営業日です。「英語版＋日本語版」やMulti User/Corporateライセンス価格など、詳細は別途お問い合わせください。

※販売価格オプションの説明はこちらで、ご購入に関する詳細案内はご利用ガイドでご確認いただけます。
※お支払金額は「換算金額（日本円）＋消費税＋配送料（Eメール納品は無料）」です。
※Eメールによる納品の場合、通常ご注文当日～2日以内に納品致します。
※レポート納品後、納品日＋5日以内に請求書を発行・送付致します。（請求書発行日より2ヶ月以内の銀行振込条件、カード払いも可能）
※YH Research社の概要及び新刊レポートはこちらでご確認いただけます。

★グローバルリサーチ資料[リソグラフィ装置の世界及び日本市場2026年：露光光源別（EUVリソグラフィシステム、ArFiリソグラフィシステム、ArFドライリソグラフィシステム、KrFリソグラフィシステム、I線リソグラフィシステム、FPDリソグラフィシステム）]についてメールでお問い合わせはこちら

*** レポート概要（サマリー）***

リソグラフィ装置の世界市場規模は、2025年の272億4300万米ドルから2032年までに479億8200万米ドルへと拡大し、2026年から2032年までの期間における年平均成長率（CAGR）は7.0％になると見込まれています。
2025年の米国関税メカニズムの戦略的見直しは、世界経済ガバナンスの規範を再定義しつつあります。本調査では、関税エスカレーションの伝播メカニズムと、企業の投資戦略、地域貿易ネットワーク、重要素材の供給体制に対する世界的な政策対応を分析する。
リソグラフィシステムは、レチクル（マスク）のパターンをフォトレジストに転写し、下流工程（エッチング、成膜、イオン注入など）を可能にする基礎的なパターニングツールである。実際には、その範囲は半導体リソグラフィシステム（解像度、オーバーレイ／CDU、スループット、プロセスウィンドウに極めて厳しい要件が課されるシリコンウェハへのパターニング）と、FPDリソグラフィシステム（LCDおよびOLEDディスプレイ製造のための大型ガラス基板——通常はTFT層——へのパターニング）に及ぶ。 FPD 分野は、非常に大きな基板フォーマットと、フィールドサイズ、広範囲にわたるスティッチング/アライメント、均一性、生産性が強く重視されるという点で構造的に差別化されていますが、半導体分野は、波長と開口数（NA）の物理的限界に挑戦しています。 3 つ目の急成長分野は、アドバンスト・パッケージングです。ここでは、リソグラフィが、より大きな基板やパネル、および再配線層（RDL）やパネルレベル・パッケージングのためのより厳密なオーバーレイにますます適用されており、ウェハーと FPD のノウハウを効果的に橋渡ししています。
製品タイプ別では、半導体リソグラフィは一般的に、i-line（365 nm）、KrF（248 nm）、ArF（193 nm、ドライおよび液浸/ArFi を含む）、EUV（13.5 nm）に分類されます。高NA EUVは、NAを0.55に引き上げ、解像度を向上させるとともに、最も重要な層におけるマルチパターニングの負担を軽減し、最先端ノードにおける次の主要なプラットフォーム移行を象徴しています。世界の 3 大半導体リソグラフィーサプライヤーのベンダーマッピングを見ると、ASML はウェハー・フロントエンドの EUV/DUV プラットフォームをリードし、高 NA EUV (EXE) の産業化を進めています。キヤノンのラインナップは、KrF スキャナー/ステッパー、FEOL および先進パッケージング向け i-line ステッパーを網羅しており、差別化されたパターニング手法としてナノインプリントリソグラフィー (NIL) の商用化も進めています。キヤノンのFPA-8000iWは、i線ステッピングを大型パネル基板（最大約515×510 mm）まで拡張し、約1.0 µmクラスの解像度と、パネルレベルパッケージング向けの反りパネル対応を実現している。ニコンは、半導体フロントエンド（ArF液浸を含む）およびバックエンド／先進パッケージング用リソグラフィシステムを提供しており、LCD/OLED向けTFTパターニングと、マルチレンズ広域露光アーキテクチャによる大型マザーガラス（例：Gen 10.5）へのスケールアップを重視した、FPDリソグラフィ専用の製品ポートフォリオを維持している。同社のDSP-100デジタルリソグラフィー・イニシアチブは、FPDの大基板技術と、先進パッケージング向けの半導体グレードの撮像およびオーバーレイ要件との融合を際立たせている。
市場の現状と動向は、ハイエンド市場における構造的な集中によって特徴づけられている。公開情報によれば、ASMLは長らくハイエンド露光装置市場で支配的な地位を占め、事実上EUVシステムの唯一の商用サプライヤーとされてきた。一方、ASMLの2024年の開示資料では、初のHigh-NA EUVシステムの顧客への設置・納入および関連する収益計上が確認されており、High-NA技術が長期にわたる研究開発段階から初期の産業導入段階へと移行していることを示している。中期的には、現実的な業界の軌跡は「EUVの拡大と、先進DUVとの長期的な共存」となるだろう：高NA EUVは、クリティカル層の微細化と製造コスト（CoO）の最適化によって牽引される一方、i線/KrF/ArFiは、成熟ノードおよび特殊ノード向けの生産能力増強や、マルチパターニングを多用するプロセスフローによって引き続き支えられる（ニコンは、非微細化半導体分野におけるi線およびKrF生産装置への活発な需要を明確に指摘している）。 FPD分野では、構造的なアップグレードとして「大型マザーガラス＋高解像度＋OLEDの普及」が進み、Gen 10.5の微細化や4K/8K生産の最適化に見合う能力要件が求められている。並行して、先進パッケージングにおけるパネル化（PLP）により、キヤノンのFPA-8000iWやニコンのDSP-100といった大型パネル用リソグラフィプラットフォームの戦略的価値が高まっている。主な推進要因は、AI/HPCおよび先進メモリの需要（ウェハあたりのリソグラフィー集積度を高め、ファブ装置への投資を持続させる）に加え、装置やソフトウェア（計算リソグラフィーを含む）の入手可能性に影響を与える地政学的な要因や輸出規制であり、これらがリソグラフィーシステムを生産能力の制約要因かつ戦略的に重要な資産として位置づけている。
本レポートは、世界の露光装置の現状と将来の動向を調査・分析し、露光光源別、用途別、企業別、および地域・国別の露光装置市場規模を把握する手助けとなる。本レポートは、世界の露光装置市場に関する詳細かつ包括的な分析であり、2025年を基準年として、市場規模（台数および百万米ドル）および前年比成長率を提示している。
市場をより深く理解するために、本レポートでは競争環境、主要競合他社、および各社の市場順位に関するプロファイルを提供しています。また、技術動向や新製品開発についても論じています。
サプライヤーの売上高、市場シェア、企業プロファイルを含む市場内の競争環境を評価します。

[ハイライト]
(1) 世界の露光装置市場規模、2021-2025年の過去データ、および2026-2032年の予測データ（百万米ドル）および（台数）
(2) 世界の露光装置の販売台数、売上高、企業別価格、市場シェア、および業界ランキング（2021-2026年）（百万米ドル）および（台数）
(3) 日本の露光装置：2021-2026年の企業別販売数量、売上高、価格、市場シェア、業界ランキング（百万米ドル）および（台数）
(4) 世界の露光装置：主要消費地域、消費数量、消費額、需要構造
(5) 世界の露光装置：主要生産地域、生産能力、生産量、前年比成長率
(6) 露光装置の産業チェーン（上流、中流、下流）

主要企業別の市場セグメント：本レポートでは以下を網羅
ASML
キヤノン
ニコン
SMEE
露光光源別の市場セグメント：以下を網羅
EUVリソグラフィシステム
ArFiリソグラフィシステム
ArFドライリソグラフィシステム
KrFリソグラフィシステム
I線リソグラフィシステム
FPDリソグラフィシステム
プロセス別の市場セグメント：以下を網羅
ロジック
メモリ
FPDリソグラフィシステム
その他
ウェーハサイズ別の市場セグメント：
12インチウェーハFAB
8インチウェーハFAB
パッケージング用リソグラフィシステム
フラットパネルディスプレイ（FPD）
用途別の市場セグメント：
フロントエンド用リソグラフィシステム
先進パッケージング用リソグラフィシステム
FPDリソグラフィシステム
地域別市場セグメント、地域別分析の対象範囲
北米（米国、カナダ、メキシコ）
欧州（ドイツ、フランス、英国、ロシア、イタリア、その他欧州諸国）
アジア太平洋（中国、日本、韓国、インド、東南アジア、オーストラリア、その他アジア太平洋諸国）
南米（ブラジル、その他の南米諸国）
中東・アフリカ

レポートの内容：
第1章：リソグラフィ装置の製品範囲、世界の販売数量、売上高、平均価格、日本の販売数量、売上高、平均価格、開発機会、課題、動向、および政策について記述
第2章：世界のリソグラフィ装置市場における主要メーカーのシェアおよびランキング、販売数量、売上高、平均価格（2021年～2026年）
第3章：日本のリソグラフィ装置市場における主要メーカーのシェアおよびランキング、販売数量、売上高、平均価格（2021年～2026年）
第4章：リソグラフィ装置の世界主要生産地域、シェアおよびCAGR（2021-2032年）
第5章：リソグラフィ装置の産業チェーン（上流、中流、下流）
第6章：露光光源別セグメント、販売数量、平均価格、消費額、シェアおよびCAGR（2021-2032年）
第7章：用途別セグメント、販売数量、平均価格、消費額、シェアおよびCAGR、2021-2032年
第8章：地域別セグメント、販売数量、平均価格、消費額、シェアおよびCAGR、2021-2032年
第9章：国別セグメント、販売数量、平均価格、消費額、割合およびCAGR（2021-2032年）
第10章：企業プロファイル、市場における主要企業の基本状況を詳細に紹介（製品仕様、用途、最近の動向、販売数量、平均価格、売上高、粗利益率を含む）
第11章：結論

*** レポート目次（コンテンツ）***

1 市場の概要
1.1 リソグラフィ装置の定義
1.2 世界のリソグラフィ装置市場規模と予測
1.2.1 消費額別、世界のリソグラフィ装置市場規模（2021年～2032年）
1.2.2 販売数量別、世界のリソグラフィ装置市場規模（2021年～2032年）
1.2.3 世界のリソグラフィ装置平均販売価格（ASP）、2021-2032年
1.3 日本のリソグラフィ装置市場規模と予測
1.3.1 消費額別、日本のリソグラフィ装置市場規模、2021-2032年
1.3.2 販売数量別、日本のリソグラフィ装置市場規模、2021-2032年
1.3.3 日本のリソグラフィ装置平均販売価格（ASP）、2021-2032年
1.4 世界市場に占める日本のリソグラフィ装置市場のシェア
1.4.1 消費額別、日本のリソグラフィ装置の世界市場におけるシェア（2021-2032年）
1.4.2 販売数量別、日本のリソグラフィ装置の世界市場におけるシェア（2021-2032年）
1.4.3 リソグラフィ装置市場規模：日本対世界（2021-2032年）
1.5 リソグラフィ装置市場の動向
1.5.1 リソグラフィ装置市場の推進要因
1.5.2 リソグラフィ装置市場の抑制要因
1.5.3 リソグラフィ装置業界のトレンド
1.5.4 リソグラフィ装置業界の政策
2 世界の主要メーカーと市場シェア
2.1 リソグラフィ装置の売上高別、企業別世界市場シェア（2021年～2026年）
2.2 リソグラフィ装置の販売数量別、企業別世界市場シェア（2021-2026年）
2.3 企業別リソグラフィ装置平均販売価格（ASP）（2021-2026年）
2.4 世界のリソグラフィ装置参入企業、市場ポジション（Tier 1、Tier 2、Tier 3）
2.5 世界の露光装置の集中度
2.6 世界の露光装置のM&Aおよび拡張計画
2.7 世界の露光装置メーカーの製品タイプ
2.8 主要メーカーの本社および露光装置生産拠点
2.9 主要メーカーの露光装置生産能力および将来計画
3 日本の主要メーカーおよび市場シェア
3.1 露光装置売上高別、日本市場における企業別シェア（2021年～2026年）
3.2 露光装置販売数量別、日本市場における企業別シェア（2021年～2026年）
3.3 日本の露光装置市場参入企業および市場ポジション（ティア1、ティア2、ティア3）
4 世界の生産地域
4.1 世界の露光装置の生産能力、生産量および稼働率（2021年～2032年）
4.2 地域別世界の露光装置の生産能力
4.3 地域別世界の露光装置の生産実績および予測（2021年対2025年対2032年）
4.4 地域別世界の露光装置の生産量（2021年～2032年）
4.5 地域別世界リソグラフィ装置生産市場シェアおよび予測（2021年～2032年）
5 産業チェーン分析
5.1 リソグラフィ装置の産業チェーン
5.2 リソグラフィ装置の上流分析
5.2.1 リソグラフィ装置の主要原材料
5.2.2 リソグラフィ装置主要原材料の主要メーカー
5.3 中流分析
5.4 下流分析
5.5 リソグラフィ装置の生産形態
5.6 リソグラフィ装置の調達モデル
5.7 リソグラフィ装置業界の販売モデルおよび販売チャネル
5.7.1 リソグラフィ装置の販売モデル
5.7.2 リソグラフィ装置の代表的な販売代理店
6 リソグラフィ装置市場の分類
6.1 露光光源別リソグラフィ装置の分類
6.1.1 EUVリソグラフィシステム
6.1.2 ArFi露光装置
6.1.3 ArFドライ露光装置
6.1.4 KrF露光装置
6.1.5 I線露光装置
6.1.6 FPD露光装置
6.1.7 露光光源別、世界の露光装置消費額（2021-2032年）
6.1.8 露光光源別、世界のリソグラフィ装置販売数量、2021-2032年
6.1.9 露光光源別、世界のリソグラフィ装置平均販売価格（ASP）、2021-2032年
6.2 プロセス別リソグラフィ装置分類
6.2.1 ロジック
6.2.2 メモリ
6.2.3 FPDリソグラフィシステム
6.2.4 その他
6.2.5 プロセス別、世界のリソグラフィ装置消費額、2021-2032年
6.2.6 プロセス別、世界のリソグラフィ装置販売数量、2021-2032年
6.2.7 プロセス別、世界の露光装置平均販売価格（ASP）、2021-2032年
6.3 ウェーハサイズ別露光装置の分類
6.3.1 12インチウェーハFAB
6.3.2 8インチウェーハFABパッケージング用露光システム
6.3.3 フラットパネルディスプレイ（FPD）
6.3.4 ウェーハサイズ別、世界の露光装置消費額、2021-2032年
6.3.5 ウェーハサイズ別、世界の露光装置販売数量、2021-2032年
6.3.6 ウェーハサイズ別、世界の露光装置平均販売価格（ASP）、2021-2032年
7 用途別分析
7.1 用途別リソグラフィ装置セグメント
7.1.1 フロントエンド用リソグラフィシステム
7.1.2 アドバンスト・パッケージング用リソグラフィシステム
7.1.3 FPD用リソグラフィシステム
7.2 用途別、世界のリソグラフィ装置消費額およびCAGR（2021年対2025年対2032年）
7.3 用途別、世界の露光装置消費額、2021年～2032年
7.4 用途別、世界の露光装置販売数量、2021年～2032年
7.5 用途別、世界の露光装置価格、2021年～2032年
8 地域別販売動向
8.1 地域別、世界の露光装置消費額、2021年対2025年対2032年
8.2 地域別、世界の露光装置消費額、2021年～2032年
8.3 地域別、世界の露光装置販売数量、2021年～2032年
8.4 北米
8.4.1 北米リソグラフィ装置市場規模および予測（2021年～2032年）
8.4.2 国別、北米リソグラフィ装置市場規模および市場シェア
8.5 欧州
8.5.1 欧州リソグラフィ装置市場規模および予測（2021年～2032年）
8.5.2 国別、欧州リソグラフィ装置市場規模・市場シェア
8.6 アジア太平洋
8.6.1 アジア太平洋リソグラフィ装置市場規模および予測、2021-2032
8.6.2 国・地域別、アジア太平洋地域のリソグラフィ装置市場規模および市場シェア
8.7 南米
8.7.1 南米のリソグラフィ装置市場規模および予測（2021年～2032年）
8.7.2 国別、南米のリソグラフィ装置市場規模および市場シェア
8.8 中東・アフリカ
9 国別販売動向
9.1 国別、世界の露光装置市場規模およびCAGR（2021年対2025年対2032年）
9.2 国別、世界の露光装置消費額（2021-2032年）
9.3 国別、世界の露光装置販売数量（2021-2032年）
9.4 米国
9.4.1 米国リソグラフィ装置市場規模（2021年～2032年）
9.4.2 露光光源別、米国リソグラフィ装置販売数量市場シェア（2025年対2032年）
9.4.3 用途別、米国リソグラフィ装置販売数量市場シェア（2025年対2032年）
9.5 欧州
9.5.1 欧州のリソグラフィ装置市場規模、2021-2032年
9.5.2 露光光源別、欧州のリソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
9.5.3 用途別、欧州のリソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
9.6 中国
9.6.1 中国のリソグラフィ装置市場規模（2021年～2032年）
9.6.2 露光光源別、中国のリソグラフィ装置販売数量市場シェア（2025年対2032年）
9.6.3 用途別、中国のリソグラフィ装置販売数量市場シェア（2025年対2032年）
9.7 日本
9.7.1 日本のリソグラフィ装置市場規模（2021年～2032年）
9.7.2 露光光源別、日本のリソグラフィ装置販売数量市場シェア（2025年対2032年）
9.7.3 用途別、日本のリソグラフィ装置販売数量市場シェア（2025年対2032年）
9.8 韓国
9.8.1 韓国のリソグラフィ装置市場規模（2021年～2032年）
9.8.2 露光光源別、韓国のリソグラフィ装置販売数量市場シェア（2025年対2032年）
9.8.3 用途別、韓国のリソグラフィ装置販売数量市場シェア（2025年対2032年）
9.9 東南アジア
9.9.1 東南アジアのリソグラフィ装置市場規模（2021年～2032年）
9.9.2 露光光源別、東南アジアのリソグラフィ装置販売数量市場シェア（2025年対2032年）
9.9.3 用途別、東南アジアのリソグラフィ装置販売数量市場シェア（2025年対2032年）
9.10 インド
9.10.1 インドのリソグラフィ装置市場規模（2021年～2032年）
9.10.2 露光光源別、インドのリソグラフィ装置販売数量市場シェア（2025年対2032年）
9.10.3 用途別、インドのリソグラフィ装置販売数量市場シェア（2025年対2032年）
9.11 中東・アフリカ
9.11.1 中東・アフリカのリソグラフィ装置市場規模（2021年～2032年）
9.11.2 露光光源別、中東・アフリカのリソグラフィ装置販売数量市場シェア（2025年対2032年）
9.11.3 用途別、中東・アフリカのリソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
10 メーカー概要
10.1 ASML
10.1.1 ASMLの会社情報、本社、事業地域、および業界における位置付け
10.1.2 ASMLのリソグラフィ装置モデル、仕様、および用途
10.1.3 ASMLリソグラフィ装置の販売数量、売上高、価格、粗利益率（2021年～2026年）
10.1.4 ASMLの会社概要および主要事業
10.1.5 ASMLの最近の動向
10.2 キヤノン
10.2.1 キヤノンの企業情報、本社所在地、市場エリア、および業界における位置付け
10.2.2 キヤノンのリソグラフィ装置のモデル、仕様、および用途
10.2.3 キヤノンのリソグラフィ装置の販売数量、売上高、価格、および粗利益率（2021年～2026年）
10.2.4 キヤノンの企業概要および主要事業
10.2.5 キヤノンの最近の動向
10.3 ニコン
10.3.1 ニコンの企業情報、本社、市場エリア、および業界における位置付け
10.3.2 ニコンのリソグラフィ装置のモデル、仕様、および用途
10.3.3 ニコンのリソグラフィ装置の販売数量、売上高、価格、および粗利益率（2021年～2026年）
10.3.4 ニコンの企業概要および主要事業
10.3.5 ニコンの最近の動向
10.4 SMEE
10.4.1 SMEEの企業情報、本社、市場エリア、および業界における位置付け
10.4.2 SMEEのリソグラフィ装置のモデル、仕様、および用途
10.4.3 SMEEのリソグラフィ装置の販売数量、売上高、価格、および粗利益率（2021年～2026年）
10.4.4 SMEEの会社概要および主要事業
10.4.5 SMEEの最近の動向
11 結論
12 付録
12.1 調査方法
12.2 データソース
12.2.1 二次情報源
12.2.2 一次情報源
12.3 市場推定モデル
12.4 免責事項

表一覧
表1. リソグラフィ装置の消費額およびCAGR：日本対世界、2021年～2032年、百万米ドル
表2. リソグラフィ装置市場の阻害要因
表3. リソグラフィ装置市場の動向
表4. リソグラフィ装置産業の政策
表5. 企業別世界リソグラフィ装置売上高（2021-2026年、百万米ドル）、2025年の売上高に基づく順位
表6. 企業別世界リソグラフィ装置売上高シェア（2021-2026年）、2025年のデータに基づく順位
表7. 企業別世界リソグラフィ装置販売数量（2021-2026年）（台数）、2025年の販売数量に基づく順位
表8. 企業別世界リソグラフィ装置販売数量市場シェア（2021-2026年）、2025年のデータに基づく順位
表9. 世界の露光装置の企業別平均販売価格（ASP）（2021-2026年）（米ドル/台）
表10. 世界の露光装置メーカーの市場集中度（CR3およびHHI）
表11. 世界の露光装置のM&Aおよび拡張計画
表12. 世界の露光装置メーカーの製品タイプ
表13. 主要メーカーの本社およびリソグラフィ装置生産拠点
表14. 主要メーカーのリソグラフィ装置生産能力および将来計画
表15. 日本のリソグラフィ装置売上高（企業別、2021-2026年、百万米ドル、2025年の売上高に基づく順位付け）
表16. 日本のリソグラフィ装置売上高シェア（企業別、2021-2026年、2025年のデータに基づく順位付け）
表17. 日本のリソグラフィ装置販売数量（企業別、2021-2026年、単位：台）、2025年の販売実績に基づく順位付け
表18. 日本のリソグラフィ装置販売数量市場シェア（企業別、2021-2026年、2025年のデータに基づく順位付け）
表19. 世界のリソグラフィ装置生産量および予測（地域別、2021年対2025年対2032年、台数）
表20. 地域別世界リソグラフィ装置生産量、2021-2026年、（台数）
表21. 地域別世界リソグラフィ装置生産予測、2027-2032年、（台数）
表22. 世界リソグラフィ装置上流（原材料）の主要企業
表23. 世界リソグラフィ装置の代表的な顧客
表24. リソグラフィ装置の主な販売代理店
表25. 用途別、世界のリソグラフィ装置消費額およびCAGR、2021年対2025年対2032年、百万米ドル
表26. 地域別、世界のリソグラフィ装置消費額、2021年対2025年対2032年、百万米ドル
表27. 地域別、世界の露光装置消費額、2021年～2032年、百万米ドル
表28. 地域別、世界の露光装置販売数量、2021年～2032年、（台数）
表29. 国別、世界の露光装置消費額およびCAGR、2021年対2025年対2032年、百万米ドル
表30. 国別、世界の露光装置消費額、2021-2032年、百万米ドル
表31. 国別、世界の露光装置消費額市場シェア、2021-2032年
表32. 国別、世界の露光装置販売数量、2021年～2032年、（台）
表33. 国別、世界の露光装置販売数量市場シェア、2021年～2032年
表34. ASMLの企業情報、本社、市場エリア、および業界における位置付け
表35. ASMLの露光装置モデル、仕様、および用途
表36. ASMLリソグラフィ装置の販売数量（台数）、売上高（百万米ドル）、価格（米ドル/台）、粗利益率（2021-2026年）
表37. ASMLの会社概要および主な事業
表38. ASMLの最近の動向
表39. キヤノンの会社情報、本社所在地、市場エリア、および業界における位置付け
表40. キヤノンのリソグラフィ装置のモデル、仕様、および用途
表41. キヤノンのリソグラフィ装置の販売数量（台数）、売上高（百万米ドル）、単価（米ドル/台）、および粗利益率（2021-2026年）
表42. キヤノンの会社概要および主要事業
表43. キヤノンの最近の動向
表44. ニコンの企業情報、本社所在地、市場エリア、および業界における位置付け
表45. ニコンのリソグラフィ装置のモデル、仕様、および用途
表46. ニコンのリソグラフィ装置の販売数量（台数）、売上高（百万米ドル）、単価（米ドル/台）、および粗利益率（2021年～2026年）
表47. ニコンの企業概要および主要事業
表48. ニコンの最近の動向
表49. SMEEの会社情報、本社、市場エリア、および業界における位置付け
表50. SMEEのリソグラフィ装置のモデル、仕様、および用途
表51. SMEEのリソグラフィ装置の販売数量（台数）、売上高（百万米ドル）、単価（米ドル/台）、および粗利益率（2021-2026年）
表52. SMEEの会社概要および主要事業
表53. SMEEの最近の動向

図表一覧
図1. リソグラフィ装置の写真
図2. 世界のリソグラフィ装置消費額（百万米ドル）（2021-2032年）
図3. 世界の露光装置販売数量（台数）および（2021-2032年）
図4. 世界の露光装置平均販売価格（ASP）（2021-2032年）および（米ドル/台）
図5. 日本の露光装置消費額（百万米ドル）および（2021-2032年）
図6. 日本のリソグラフィ装置販売数量（台数）および（2021-2032年）
図7. 日本のリソグラフィ装置平均販売価格（ASP）（米ドル/台）および（2021-2032年）
図8. 消費額別、日本のリソグラフィ装置の世界市場シェア（2021-2032年）
図9. 販売数量別、日本のリソグラフィ装置の世界市場シェア（2021-2032年）
図10. 企業別（Tier 1、Tier 2、Tier 3）の世界リソグラフィ装置市場シェア（2025年）
図11. 日本のリソグラフィ装置主要参入企業および市場シェア（2025年）
図12. 世界の露光装置の生産能力、生産量および稼働率、2021-2032年
図13. 世界の露光装置の生産能力における地域別市場シェア、2025年対2032年
図14. 世界の露光装置の生産における地域別市場シェアおよび予測、2021-2032年
図15. 露光装置の産業チェーン
図16. リソグラフィ装置の調達モデル
図17. リソグラフィ装置の販売モデル
図18. リソグラフィ装置の販売チャネル、直接販売、および流通
図19. EUVリソグラフィシステム
図20. ArFiリソグラフィシステム
図21. ArFドライリソグラフィシステム
図22. KrFリソグラフィシステム
図23. I線リソグラフィシステム
図24. FPD用リソグラフィシステム
図25. 露光光源別、世界のリソグラフィ装置消費額、2021-2032年、百万米ドル
図26. 露光光源別、世界のリソグラフィ装置消費額市場シェア、2021-2032年
図27. 露光光源別、世界のリソグラフィ装置販売数量、2021-2032年、（台数）
図28. 露光光源別、世界の露光装置販売数量市場シェア、2021-2032年
図29. 露光光源別、世界の露光装置平均販売価格（ASP）、2021-2032年、（米ドル/台）
図30. ロジック
図31. メモリ
図32. FPDリソグラフィシステム
図33. その他
図34. プロセス別、世界の露光装置消費額、2021-2032年、百万米ドル
図35. プロセス別、世界の露光装置消費額市場シェア、2021-2032年
図36. プロセス別、世界の露光装置販売数量、2021-2032年、（台）
図37. プロセス別、世界の露光装置販売数量市場シェア、2021-2032年
図38. プロセス別、世界の露光装置平均販売価格（ASP）、2021-2032年、（米ドル/台）
図39. 12インチウェーハFAB
図40. 8インチウェーハFABパッケージング用露光システム
図41. フラットパネルディスプレイ（FPD）
図42. ウェーハサイズ別、世界の露光装置消費額、2021-2032年、百万米ドル
図43. ウェーハサイズ別、世界の露光装置消費額市場シェア、2021-2032年
図44. ウェーハサイズ別、世界の露光装置販売数量、2021-2032年、（台数）
図45. ウェーハサイズ別、世界の露光装置販売数量市場シェア、2021-2032年
図46. ウェーハサイズ別、世界の露光装置平均販売価格（ASP）、2021-2032年、（米ドル/台）
図47. フロントエンド露光システム
図48. アドバンスト・パッケージング露光システム
図49. FPD用リソグラフィシステム
図50. 用途別、世界のリソグラフィ装置消費額、2021-2032年、百万米ドル
図51. 用途別、世界のリソグラフィ装置売上高市場シェア、2021-2032年
図52. 用途別、世界のリソグラフィ装置販売数量、2021-2032年、（台数）
図53. 用途別、世界の露光装置販売数量市場シェア、2021-2032年
図54. 用途別、世界の露光装置価格、2021-2032年、（米ドル/台）
図55. 地域別、世界の露光装置消費額市場シェア、2021-2032年
図56. 地域別、世界の露光装置販売数量市場シェア、2021-2032年
図57. 北米の露光装置消費額および予測、2021-2032年、百万米ドル
図58. 国別、北米の露光装置消費額市場シェア、2025年
図59. 欧州のリソグラフィ装置消費額および予測（2021-2032年、百万米ドル）
図60. 国別、欧州のリソグラフィ装置消費額市場シェア（2025年）
図61. アジア太平洋地域のリソグラフィ装置消費額および予測（2021-2032年、百万米ドル）
図62. 国・地域別、アジア太平洋地域のリソグラフィ装置消費額市場シェア（2025年）
図63. 南米のリソグラフィ装置消費額および予測（2021-2032年、百万米ドル）
図64. 国別、南米のリソグラフィ装置消費額市場シェア（2025年）
図65. 中東・アフリカのリソグラフィ装置消費額および予測、2021-2032年、百万米ドル
図66. 米国のリソグラフィ装置販売数量、2021-2032年、（台数）
図67. 露光光源別、米国のリソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
図68. 用途別、米国リソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
図69. 欧州リソグラフィ装置販売数量、2021-2032年、（台数）
図70. 露光光源別、欧州リソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
図71. 用途別、欧州リソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
図72. 中国リソグラフィ装置販売数量、2021-2032年（台数）
図73. 露光光源別、中国リソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
図74. 用途別、中国リソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
図75. 日本のリソグラフィ装置販売数量、2021-2032年、（台数）
図76. 露光光源別、日本のリソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
図77. 用途別、日本のリソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
図78. 韓国のリソグラフィ装置販売数量、2021-2032年、（台数）
図79. 露光光源別、韓国のリソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
図80. 用途別、韓国リソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
図81. 東南アジアのリソグラフィ装置販売数量、2021-2032年（台数）
図82. 露光光源別、東南アジアのリソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
図83. 用途別、東南アジアのリソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
図84. インドのリソグラフィ装置販売数量、2021-2032年（台数）
図85. 露光光源別、インドのリソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
図86. 用途別、インドのリソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
図87. 中東・アフリカのリソグラフィ装置販売数量、2021-2032年（台数）
図88. 露光光源別、中東・アフリカのリソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
図89. 用途別、中東・アフリカのリソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
図90. 調査方法論
図91. 一次インタビューの内訳
図92. ボトムアップアプローチ
図93. トップダウンアプローチ

※参考情報

リソグラフィ装置は、半導体製造プロセスにおいて重要な役割を果たす機器です。この装置は、デジタル回路や微細なパターンを基板上に転写するために使用されます。リソグラフィは、光や電子ビーム、X線などの放射線を用いて、感光性材料にパターンを形成するプロセスです。この技術は、集積回路やマイクロエレクトロメカニカルシステム（MEMS）、フォトニクスデバイスなど、さまざまな分野で応用されています。
リソグラフィ装置にはいくつかの種類があります。まず、光リソグラフィ装置があります。これは、紫外線（UV）光を使用してパターンを基板上に転写するもので、現在の半導体製造で最も一般的な方式です。光源は、一般的に水銀ランプやレーザーを使用します。この手法は、比較的高いスループットを持ち、量産が可能なため、広く採用されています。

次に、電子ビームリソグラフィ装置があります。この装置は、電子ビームを使用してパターンを形成します。電子ビームリソグラフィは、非常に高い解像度を持つため、ナノスケールの構造を作成するのに適していますが、スループットが低いため、主にプロトタイプや少量生産に使用されます。

X線リソグラフィ装置も存在します。これは、X線を用いて微細なパターンを転写する技術であり、極めて高い解像度を得ることができますが、コストが高く、技術的な課題も多いため、商業化はまだ進んでいません。

リソグラフィ技術の進展は、特に微細化の進展に伴ってきました。製造プロセスの微細化には、光学技術の形状を制御するためのアプローチが必要です。その中でも、193nm光源を使用する乾式および湿式リソグラフィ技術は、現在の主流となっています。さらに、極紫外線（EUV）リソグラフィ技術も登場しており、これによりより小さなパターンが実現可能になっています。EUVリソグラフィは、13.5nmの波長を使用し、さらなるパターン微細化を提供します。

リソグラフィプロセスには、フォトレジストと呼ばれる感光性材料が使用されます。フォトレジストは、光や電子ビームに曝露されると化学的性質が変化し、所定のパターンを形成します。この材料は、ポジタイプとネガタイプの二種類があり、ポジタイプは露光された部分が溶解し、ネガタイプは露光された部分が残ります。フォトレジストの性能は、解像度、感度、厚さなどに影響を与えるため、適切な材料選びが重要です。

リソグラフィ装置の用途は多岐にわたります。最も一般的な用途は、半導体の集積回路を製造することです。これらの集積回路は、スマートフォン、コンピュータ、家電製品など、あらゆる電子機器に組み込まれています。また、MEMSデバイスの製造や、ウェハー上の各種センサー、光電子デバイス、バイオセンサーなどの製造にもリソグラフィ技術は活用されています。

関連技術としては、エッチングや成膜技術があります。エッチングは、パターンを基板から削り取るプロセスであり、成膜は新しい材料を基板上に付着させる技術です。これらのプロセスとリソグラフィが組み合わさることで、複雑なデバイスを製造することが可能となります。

最後に、リソグラフィ技術は進化を続けており、新しい材料やプロセスが開発されています。今後もさらなる微細化が求められる中で、リソグラフィ装置とその周辺技術は、半導体産業における競争力を維持するための重要な要素であり続けるでしょう。

*** 免責事項 ***
https://www.globalresearch.co.jp/disclaimer/

H&I Global Research

グローバル市場調査会社