カテゴリ： YH Research, 世界

半導体リソグラフィ装置の世界及び日本市場2026年：露光源別（EUVリソグラフィシステム、ArFiリソグラフィシステム、ArFドライリソグラフィシステム、KrFリソグラフィシステム、I線リソグラフィシステム）

■ 英語タイトル：Semiconductor Lithography Equipment - Global Top Players Market Share and Ranking 2026
	■ 発行会社/調査会社：YH Research ■ 商品コード：YHR26MY5366 ■ 発行日：2026年5月 ■ 調査対象地域：グローバル ■ 産業分野：電子・半導体 ■ ページ数：94 ■ レポート言語：英語 ■ レポート形式：PDF ■ 納品方式：Eメール

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★グローバルリサーチ資料[半導体リソグラフィ装置の世界及び日本市場2026年：露光源別（EUVリソグラフィシステム、ArFiリソグラフィシステム、ArFドライリソグラフィシステム、KrFリソグラフィシステム、I線リソグラフィシステム）]についてメールでお問い合わせはこちら

*** レポート概要（サマリー）***

世界の半導体リソグラフィ装置市場は、2025年の256億9400万米ドルから2032年までに470億1400万米ドルへと拡大し、2026年から2032年までの期間における年平均成長率（CAGR）は7.5％となる見込みである。
2025年の米国関税メカニズムの戦略的再調整は、世界経済ガバナンスの規範を再定義しつつある。本調査では、関税エスカレーションの経路と、企業の投資戦略、地域貿易ネットワーク、重要素材の供給体制に対する世界的な政策対応との間の伝達メカニズムを解明する。
半導体リソグラフィシステムは、ウェハーファブや先進パッケージングラインにおいて、極めて重要な「パターン転写」露光装置である。その中核的な機能は、レチクル（フォトマスク）からフォトレジストを塗布したウェハー（およびバックエンド工程においては基板／パネル）へ回路パターンを投影または走査し、エッチング、成膜、イオン注入といった後続のパターン転写工程に必要な解像度、オーバーレイ精度、生産性を提供するものである。業界の実務において、主流のシステムは投影型リソグラフィ装置、すなわちステッパー（ステップ・アンド・リピート）とスキャナー（ステップ・アンド・スキャン）である。波長と性能に基づき、市場は一般的にi-line（365 nm）、KrF（248 nm）、ArF（193 nm、ドライおよび液浸/ArFiを含む）、EUV（13.5 nm）に分類される。 ArF液浸は超純水を媒体として用いることで開口数（NA）と解像度を向上させ、一方EUVは波長を短縮することでより微細なピッチを実現する。並行して、ナノインプリントリソグラフィ（NIL）は（光学投影ではなく機械的インプリントによる）代替パターニング手法として位置づけられており、特定の層やコスト・消費電力に敏感な用途向けに展開されている。
世界市場の現状および競争環境の観点から見ると、最先端のリソグラフィー市場は構造的に集中している。EUV（新興のHigh-NA EUV世代を含む）はASMLによって商用化され、大規模に供給されており、信頼できる最近の報告によれば、ASMLのリソグラフィー市場全体におけるシェアは約90％であり、EUV市場は事実上独占状態にある。製品および出荷構成に関しては、ASMLのNXEファミリー（0.33 NA EUV）が先進ロジックおよび先進メモリの重要な層を支えている一方、同社のArF液浸プラットフォームは、マルチパターニング、オーバーレイ制御、および生産能力の柔軟性において依然として中心的な役割を果たしている。 ASMLの2024年の開示資料には、初のHigh-NA EUV（0.55 NA）システムの納入・現場設置が記録されており、EXEおよびNXEシステムの主要な受注台数が示されている。これは、研究開発から初期の産業化への移行を裏付けるものである。一方、ニコンとキヤノンは主にDUVおよびi-lineセグメントで競合しており、バックエンド／先進パッケージング露光分野でも戦略的な地位を維持している。ニコンの公式ラインナップにはArF液浸システムが含まれており、同社は次世代プラットフォームの共同開発やバックエンドプロセス向けの「デジタルリソグラフィ」の方向性について公に議論している。一方、キヤノンの公表ラインナップは、FEOLおよび先進パッケージング向けのKrFスキャナー／ステッパーやi-lineステッパーに及ぶほか、NILの商用化を推進し、パッケージング関連のリソグラフィー分野での存在感を強調している。
主要なトレンドと推進要因は、3つの流れに分類できる。第一に、高NA EUVの産業化が主要な技術的転換点である。0.55 NA EUVは、最も重要な層において高解像度とマルチパターニング工程の削減を目指し、プロセスウィンドウの改善と所有コスト（CoO）の低減をもたらす可能性がある一方で、光学系、材料、計測、ソフトウェアにわたるより緊密な共同最適化（ホリスティック・リソグラフィ）を必要とする。第二に、先進DUVは構造的に不可欠な存在であり続ける。EUVが拡大する中でも、ArF液浸露光は重要層および準重要層の大部分を担い続けており、ロードマップではスループットの向上、オーバーレイ精度の向上、および既存のファブエコシステムとの強力な互換性が強調されている。これらは、ニコンが2030年に向けた新プラットフォーム計画と明確に結びつけている領域である。第三に、先進パッケージングはリソグラフィの適用範囲を拡大する。チプレットベースの集積、 2.5D/3D積層、およびRDL/パネルレベルプロセスは、高オーバーレイ・高生産性のバックエンド露光装置（多くの場合i-line中心）への需要を高めており、一方でNILは、特定のユースケースにおいて1X nmパターンを形成可能な、低消費電力かつ潜在的に低コストなルートとして位置づけられている。これはキヤノンの統合報告書および年次開示資料で明確に強調されている。需要側の牽引要因は、AI/HPCおよびデータセンターの拡張、ならびにそれに関連する先進ロジックおよびメモリ（例：HBM/DDR5）への移行に依然として支えられており、これらはウェハーあたりの「リソグラフィー集約度」（層数の増加およびオーバーレイ／CDU要件の厳格化）を高めている。輸出規制や地政学的な要因は、装置の配分、サプライチェーンのレジリエンス、および地域ごとの生産能力戦略にさらなる影響を与え、リソグラフィシステムを戦略的かつ生産能力を制約する資産として位置づけています。
本レポートは、世界の半導体リソグラフィ装置の現状と将来の動向を調査・分析し、露光光源別、プロセス別、企業別、および地域・国別の半導体リソグラフィ装置市場の規模を把握する上で、クライアントを支援します。本レポートは、半導体リソグラフィ装置の世界市場に関する詳細かつ包括的な分析であり、2025年を基準年として、市場規模（台数および百万米ドル）および前年比成長率を提示しています。
市場をより深く理解するために、本レポートでは競争環境、主要競合他社、およびそれぞれの市場順位に関するプロファイルを提供しています。また、技術動向や新製品開発についても論じています。
サプライヤーの売上高、市場シェア、企業プロファイルを含む、市場内の競争環境を評価します。

【ハイライト】
(1) 世界の半導体リソグラフィ装置の市場規模、2021年～2025年の過去データ、および2026年～2032年の予測データ（百万米ドル）および（台数）
(2) 世界の半導体リソグラフィ装置の販売台数、売上高、企業別価格、市場シェア、業界ランキング（2021-2026年）（百万米ドル）および（台数）
(3) 日本の半導体リソグラフィ装置の販売台数、売上高、企業別価格、市場シェア、業界ランキング（2021-2026年）（百万米ドル）および（台数）
(4) 世界の半導体リソグラフィ装置の主要消費地域、消費数量、消費額、および需要構造
(5) 世界の半導体リソグラフィ装置の主要生産地域、生産能力、生産量、および前年比成長率
(6) 半導体リソグラフィ装置の産業チェーン（上流、中流、下流）

主要企業別の市場セグメント：本レポートでは以下を網羅
ASML
キヤノン
ニコン
SMEE
露光光源別の市場セグメント：以下を網羅
露光方式別市場セグメント：
EUVリソグラフィシステム
ArFiリソグラフィシステム
ArFドライリソグラフィシステム
KrFリソグラフィシステム
I線リソグラフィシステム
流通状況別市場セグメント：
新品リソグラフィシステム
再生品／中古リソグラフィシステム
用途別市場セグメント：
フロントエンド用リソグラフィシステム
アドバンスト・パッケージング用リソグラフィシステム
プロセス別市場セグメント：
ロジック
メモリ
その他
地域別市場セグメント、地域分析の対象範囲
北米（米国、カナダ、メキシコ）
欧州（ドイツ、フランス、英国、ロシア、イタリア、およびその他の欧州諸国）
アジア太平洋（中国、日本、韓国、インド、東南アジア、オーストラリア、およびその他のアジア太平洋諸国）
南米（ブラジル、その他の南米諸国）
中東・アフリカ

レポートの内容：
第1章：半導体リソグラフィ装置の製品範囲、世界販売数量、販売額、平均価格、日本における販売数量、販売額、平均価格、開発機会、課題、動向、および政策について記述
第2章：世界の半導体リソグラフィ装置市場における主要メーカーのシェアおよびランキング、販売数量、売上高、平均価格（2021年～2026年）
第3章：日本の半導体リソグラフィ装置市場における主要メーカーのシェアおよびランキング、販売数量、売上高、平均価格（2021年～2026年）
第4章：世界の半導体リソグラフィ装置の主要生産地域、シェアおよびCAGR（2021-2032年）
第5章：半導体リソグラフィ装置の産業チェーン（上流、中流、下流）
第6章：露光光源別セグメント、販売数量、平均価格、消費額、シェアおよびCAGR（2021-2032年）
第7章：プロセス別セグメント、販売数量、平均価格、消費額、シェアおよびCAGR（2021-2032年）
第8章：地域別セグメント、販売数量、平均価格、消費額、シェアおよびCAGR（2021-2032年）
第9章：国別セグメント、販売数量、平均価格、消費額、割合およびCAGR（2021-2032年）
第10章：企業プロファイル、市場における主要企業の基本状況を詳細に紹介（製品仕様、用途、最近の動向、販売数量、平均価格、売上高、粗利益率を含む）
第11章：結論

*** レポート目次（コンテンツ）***

1 市場の概要
1.1 半導体露光装置の定義
1.2 世界の半導体露光装置市場規模と予測
1.2.1 消費額別、世界の半導体露光装置市場規模（2021年～2032年）
1.2.2 販売数量別、世界の半導体露光装置市場規模（2021年～2032年）
1.2.3 世界の半導体リソグラフィ装置の平均販売価格（ASP）、2021-2032年
1.3 日本の半導体リソグラフィ装置市場規模と予測
1.3.1 消費額別、日本の半導体リソグラフィ装置市場規模、2021-2032年
1.3.2 販売数量別、日本の半導体リソグラフィ装置市場規模、2021-2032年
1.3.3 日本の半導体リソグラフィ装置平均販売価格（ASP）、2021-2032年
1.4 世界の市場に占める日本の半導体露光装置市場のシェア
1.4.1 消費額別、世界の市場における日本の半導体露光装置の市場シェア、2021-2032年
1.4.2 販売数量別、世界の市場における日本の半導体露光装置の市場シェア、2021-2032年
1.4.3 半導体リソグラフィ装置市場規模：日本対世界、2021-2032年
1.5 半導体リソグラフィ装置市場の動向
1.5.1 半導体リソグラフィ装置市場の推進要因
1.5.2 半導体リソグラフィ装置市場の抑制要因
1.5.3 半導体リソグラフィ装置業界のトレンド
1.5.4 半導体リソグラフィ装置業界の政策
2 世界の主要メーカーと市場シェア
2.1 半導体リソグラフィ装置の売上高別、企業別世界市場シェア、2021-2026年
2.2 半導体リソグラフィ装置の販売数量別、企業別世界市場シェア、2021-2026年
2.3 半導体露光装置の企業別平均販売価格（ASP）、2021-2026年
2.4 世界の半導体露光装置市場参入企業、市場ポジション（Tier 1、Tier 2、Tier 3）
2.5 世界の半導体露光装置市場の集中度
2.6 世界の半導体露光装置市場のM&Aおよび拡張計画
2.7 世界の半導体露光装置メーカーの製品タイプ
2.8 主要メーカーの本社および半導体露光装置生産拠点
2.9 主要メーカーの半導体露光装置生産能力および将来計画
3 日本の主要メーカーと市場シェア
3.1 半導体露光装置の売上高別、日本市場における企業別シェア（2021-2026年）
3.2 半導体露光装置の販売数量別、企業別日本市場シェア（2021年～2026年）
3.3 日本の半導体露光装置市場における主要企業、市場ポジション（Tier 1、Tier 2、Tier 3）
4 世界の生産地域
4.1 世界の半導体露光装置の生産能力、生産量および稼働率（2021年～2032年）
4.2 地域別世界の半導体露光装置の生産能力
4.3 地域別世界の半導体露光装置の生産量および予測（2021年対2025年対2032年）
4.4 地域別世界半導体リソグラフィ装置生産量（2021年～2032年）
4.5 地域別世界半導体リソグラフィ装置生産市場シェアおよび予測（2021年～2032年）
5 産業チェーン分析
5.1 半導体リソグラフィ装置の産業チェーン
5.2 半導体リソグラフィ装置の上流分析
5.2.1 半導体リソグラフィ装置の主要原材料
5.2.2 半導体リソグラフィ装置の主要原材料メーカー
5.3 中流分析
5.4 下流分析
5.5 半導体リソグラフィ装置の生産形態
5.6 半導体リソグラフィ装置の調達モデル
5.7 半導体リソグラフィ装置業界の販売モデルと販売チャネル
5.7.1 半導体リソグラフィ装置の販売モデル
5.7.2 半導体リソグラフィ装置の代表的な販売代理店
6 半導体リソグラフィ装置市場の分類
6.1 露光光源別半導体リソグラフィ装置の分類
6.1.1 EUVリソグラフィシステム
6.1.2 ArFiリソグラフィシステム
6.1.3 ArFドライリソグラフィシステム
6.1.4 KrF露光装置
6.1.5 I線露光装置
6.1.6 露光光源別、世界の半導体露光装置消費額、2021-2032年
6.1.7 露光光源別、世界の半導体露光装置販売数量、2021-2032年
6.1.8 露光光源別、世界の半導体リソグラフィ装置平均販売価格（ASP）、2021-2032年
6.2 流通状況別半導体リソグラフィ装置の分類
6.2.1 新品リソグラフィシステム
6.2.2 リファブリッシュ品／中古リソグラフィシステム
6.2.3 流通状況別、世界の半導体リソグラフィ装置消費額、2021-2032年
6.2.4 流通状況別、世界の半導体リソグラフィ装置販売数量、2021-2032年
6.2.5 流通状況別、世界の半導体リソグラフィ装置平均販売価格（ASP）、2021-2032年
6.3 用途別半導体リソグラフィ装置の分類
6.3.1 フロントエンド・リソグラフィシステム
6.3.2 アドバンスト・パッケージング・リソグラフィシステム
6.3.3 用途別、世界の半導体リソグラフィ装置消費額、2021-2032年
6.3.4 用途別、世界の半導体リソグラフィ装置販売数量、2021-2032年
6.3.5 用途別、世界の半導体リソグラフィ装置平均販売価格（ASP）、2021-2032年
7 プロセス別動向
7.1 プロセス別半導体リソグラフィ装置セグメント
7.1.1 ロジック
7.1.2 メモリ
7.1.3 その他
7.2 プロセス別、世界の半導体リソグラフィ装置消費額およびCAGR、2021年対2025年対2032年
7.3 プロセス別、世界の半導体リソグラフィ装置消費額、2021-2032年
7.4 プロセス別、世界の半導体リソグラフィ装置販売数量、2021-2032年
7.5 プロセス別、世界の半導体リソグラフィ装置価格（2021年～2032年）
8 地域別の販売動向
8.1 地域別、世界の半導体リソグラフィ装置消費額（2021年対2025年対2032年）
8.2 地域別、世界の半導体リソグラフィ装置消費額（2021年～2032年）
8.3 地域別、世界の半導体リソグラフィ装置販売数量、2021-2032年
8.4 北米
8.4.1 北米半導体リソグラフィ装置市場規模および予測、2021-2032年
8.4.2 国別、北米半導体リソグラフィ装置市場規模および市場シェア
8.5 欧州
8.5.1 欧州の半導体リソグラフィ装置市場規模および予測（2021-2032年）
8.5.2 国別、欧州の半導体リソグラフィ装置市場規模および市場シェア
8.6 アジア太平洋
8.6.1 アジア太平洋の半導体リソグラフィ装置市場規模および予測（2021-2032年）
8.6.2 国・地域別、アジア太平洋地域の半導体リソグラフィ装置市場規模および市場シェア
8.7 南米
8.7.1 南米における半導体リソグラフィ装置の市場規模および予測（2021年～2032年）
8.7.2 国別、南米における半導体リソグラフィ装置の市場規模および市場シェア
8.8 中東・アフリカ
9 国別販売動向
9.1 国別、世界の半導体リソグラフィ装置市場規模およびCAGR（2021年対2025年対2032年）
9.2 国別、世界の半導体リソグラフィ装置消費額（2021-2032年）
9.3 国別、世界の半導体リソグラフィ装置販売数量（2021-2032年）
9.4 米国
9.4.1 米国半導体リソグラフィ装置市場規模（2021年～2032年）
9.4.2 露光光源別、米国半導体リソグラフィ装置販売数量の市場シェア（2025年対2032年）
9.4.3 プロセス別、米国半導体リソグラフィ装置販売数量の市場シェア（2025年対2032年）
9.5 欧州
9.5.1 欧州の半導体リソグラフィ装置市場規模（2021年～2032年）
9.5.2 露光光源別、欧州の半導体リソグラフィ装置販売数量の市場シェア（2025年対2032年）
9.5.3 プロセス別、欧州の半導体リソグラフィ装置販売数量の市場シェア（2025年対2032年）
9.6 中国
9.6.1 中国の半導体リソグラフィ装置市場規模（2021年～2032年）
9.6.2 露光光源別、中国の半導体リソグラフィ装置販売数量の市場シェア（2025年対2032年）
9.6.3 プロセス別、中国の半導体リソグラフィ装置販売数量の市場シェア（2025年対2032年）
9.7 日本
9.7.1 日本の半導体露光装置市場規模（2021年～2032年）
9.7.2 露光光源別、日本の半導体露光装置販売数量市場シェア（2025年対2032年）
9.7.3 プロセス別、日本の半導体露光装置販売数量市場シェア（2025年対2032年）
9.8 韓国
9.8.1 韓国半導体リソグラフィ装置市場規模、2021-2032年
9.8.2 露光光源別、韓国半導体リソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
9.8.3 プロセス別、韓国における半導体露光装置の販売数量シェア（2025年対2032年）
9.9 東南アジア
9.9.1 東南アジアにおける半導体露光装置の市場規模（2021年～2032年）
9.9.2 露光光源別、東南アジアの半導体リソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
9.9.3 プロセス別、東南アジアの半導体リソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
9.10 インド
9.10.1 インドの半導体リソグラフィ装置市場規模（2021年～2032年）
9.10.2 露光光源別、インドの半導体リソグラフィ装置販売数量市場シェア（2025年対2032年）
9.10.3 プロセス別、インドの半導体リソグラフィ装置販売数量市場シェア（2025年対2032年）
9.11 中東・アフリカ
9.11.1 中東・アフリカの半導体リソグラフィ装置市場規模（2021年～2032年）
9.11.2 露光光源別、中東・アフリカの半導体リソグラフィ装置販売数量の市場シェア（2025年対2032年）
9.11.3 プロセス別、中東・アフリカの半導体リソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
10 メーカー概要
10.1 ASML
10.1.1 ASMLの会社情報、本社、市場エリア、および業界における位置付け
10.1.2 ASMLの半導体リソグラフィ装置のモデル、仕様、および用途
10.1.3 ASMLの半導体リソグラフィ装置の販売数量、売上高、価格、粗利益率（2021年～2026年）
10.1.4 ASMLの会社概要および主な事業
10.1.5 ASMLの最近の動向
10.2 キヤノン
10.2.1 キヤノンの会社情報、本社、市場エリア、および業界における位置付け
10.2.2 キヤノンの半導体リソグラフィ装置のモデル、仕様、および用途
10.2.3 キヤノンの半導体リソグラフィ装置の販売数量、売上高、価格、および粗利益率（2021年～2026年）
10.2.4 キヤノンの会社概要および主要事業
10.2.5 キヤノンの最近の動向
10.3 ニコン
10.3.1 ニコンの企業情報、本社所在地、市場エリア、および業界における位置付け
10.3.2 ニコンの半導体リソグラフィ装置のモデル、仕様、および用途
10.3.3 ニコンの半導体リソグラフィ装置の販売数量、売上高、価格、および粗利益率（2021年～2026年）
10.3.4 ニコンの企業概要および主要事業
10.3.5 ニコンの最近の動向
10.4 SMEE
10.4.1 SMEEの企業情報、本社、市場エリア、および業界における位置付け
10.4.2 SMEEの半導体リソグラフィ装置のモデル、仕様、および用途
10.4.3 SMEEの半導体リソグラフィ装置の販売数量、売上高、価格、および粗利益率（2021年～2026年）
10.4.4 SMEEの会社概要および主要事業
10.4.5 SMEEの最近の動向
11 結論
12 付録
12.1 調査方法
12.2 データソース
12.2.1 二次情報源
12.2.2 一次情報源
12.3 市場推定モデル
12.4 免責事項

表一覧
表1. 半導体リソグラフィ装置の消費額およびCAGR：日本対世界、2021年～2032年、百万米ドル
表2. 半導体リソグラフィ装置市場の阻害要因
表3. 半導体リソグラフィ装置市場の動向
表4. 半導体リソグラフィ装置産業の政策
表5. 世界の半導体リソグラフィ装置売上高（企業別、2021-2026年、百万米ドル、2025年の売上高に基づく順位）
表6. 世界の半導体リソグラフィ装置売上高シェア（企業別、2021-2026年、2025年のデータに基づく順位）
表7. 世界の半導体リソグラフィ装置販売数量（企業別、2021-2026年、台数）、2025年の販売数量に基づく順位
表8. 世界の半導体リソグラフィ装置販売数量の市場シェア（企業別、2021-2026年）、2025年のデータに基づく順位
表9. 世界の半導体リソグラフィ装置の企業別平均販売価格（ASP）（2021-2026年）（単位：百万米ドル/台）
表10. 世界の半導体リソグラフィ装置メーカーの市場集中度（CR3およびHHI）
表11. 世界の半導体リソグラフィ装置のM&Aおよび拡張計画
表12. 世界の半導体リソグラフィ装置メーカーの製品タイプ
表13. 主要メーカーの本社および半導体リソグラフィ装置生産拠点
表14. 主要メーカーの半導体リソグラフィ装置生産能力と将来計画
表15. 日本の半導体リソグラフィ装置売上高（企業別、2021-2026年、百万米ドル、2025年の売上高に基づく順位付け）
表16. 日本の半導体露光装置売上高シェア（企業別、2021-2026年、2025年のデータに基づく順位付け）
表17. 日本の半導体露光装置販売数量（企業別、2021-2026年、単位：台）、2025年の販売実績に基づく順位付け
表18. 日本の半導体リソグラフィ装置販売数量市場シェア（企業別、2021-2026年、2025年のデータに基づく順位付け）
表19. 世界の半導体リソグラフィ装置生産量および地域別予測（2021年対2025年対2032年、台数）
表20. 地域別世界半導体リソグラフィ装置生産量、2021-2026年、（台数）
表21. 地域別世界半導体リソグラフィ装置生産予測、2027-2032年、（台数）
表22. 半導体リソグラフィ装置上流（原材料）の世界主要企業
表23. 半導体リソグラフィ装置の代表的な顧客
表24. 半導体リソグラフィ装置の主な販売代理店
表25. プロセス別、世界の半導体リソグラフィ装置消費額およびCAGR（2021年対2025年対2032年、百万米ドル）
表26. 地域別、世界の半導体リソグラフィ装置消費額（2021年対2025年対2032年、百万米ドル）
表27. 地域別、世界の半導体リソグラフィ装置消費額（2021年～2032年、百万米ドル）
表28. 地域別、世界の半導体リソグラフィ装置販売数量（2021年～2032年、台数）
表29. 国別、世界の半導体リソグラフィ装置消費額およびCAGR、2021年対2025年対2032年、百万米ドル
表30. 国別、世界の半導体リソグラフィ装置消費額、2021年～2032年、百万米ドル
表31. 国別、世界の半導体リソグラフィ装置消費額市場シェア、2021年～2032年
表32. 国別、世界の半導体リソグラフィ装置販売数量、2021年～2032年（台数）
表33. 国別、世界の半導体リソグラフィ装置販売数量市場シェア、2021年～2032年
表34. ASMLの企業情報、本社所在地、市場エリア、および業界における位置付け
表35. ASMLの半導体リソグラフィ装置のモデル、仕様、および用途
表36. ASMLの半導体リソグラフィ装置の販売数量（台数）、売上高（百万米ドル）、単価（百万米ドル/台）、および粗利益率、2021-2026年
表37. ASMLの会社概要および主な事業
表38. ASMLの最近の動向
表39. キヤノンの会社情報、本社所在地、市場エリア、および業界における位置付け
表40. キヤノンの半導体リソグラフィ装置のモデル、仕様、および用途
表41. キヤノンの半導体リソグラフィ装置の販売数量（台数）、売上高（百万米ドル）、単価（百万米ドル/台）、および粗利益率（2021年～2026年）
表42. キヤノンの会社概要および主要事業
表43. キヤノンの最近の動向
表44. ニコンの会社情報、本社所在地、市場エリア、および業界における位置付け
表45. ニコンの半導体露光装置のモデル、仕様、および用途
表46. ニコンの半導体露光装置の販売数量（台数）、売上高（百万米ドル）、単価（百万米ドル/台）、および粗利益率（2021年～2026年）
表47. ニコンの会社概要および主要事業
表48. ニコンの最近の動向
表49. SMEEの企業情報、本社所在地、市場エリア、および業界における位置付け
表50. SMEEの半導体リソグラフィ装置のモデル、仕様、および用途
表51. SMEEの半導体リソグラフィ装置の販売数量（台数）、売上高（百万米ドル）、単価（百万米ドル/台）、および粗利益率（2021年～2026年）
表52. SMEEの会社概要および主要事業
表53. SMEEの最近の動向

図表一覧
図1. 半導体リソグラフィ装置の写真
図2. 世界の半導体リソグラフィ装置の消費額（百万米ドル）（2021-2032年）
図3. 世界の半導体リソグラフィ装置販売数量（台数）および（2021-2032年）
図4. 世界の半導体リソグラフィ装置平均販売価格（ASP）（2021-2032年）および（百万米ドル／台）
図5. 日本の半導体リソグラフィ装置市場規模（百万米ドル）および（2021-2032年）
図6. 日本の半導体リソグラフィ装置販売台数（台）および（2021-2032年）
図7. 日本の半導体露光装置平均販売価格（ASP）、（百万米ドル／台）および（2021-2032年）
図8. 消費額別、日本の半導体露光装置の世界市場シェア、2021-2032年
図9. 販売数量別、日本の半導体露光装置の世界市場シェア、2021-2032年
図10. 企業別（Tier 1、Tier 2、Tier 3）の世界半導体リソグラフィ装置市場シェア、2025年
図11. 日本の半導体リソグラフィ装置主要参入企業および市場シェア、2025年
図12. 世界の半導体リソグラフィ装置の生産能力、生産量および稼働率、2021-2032年
図13. 地域別世界半導体リソグラフィ装置生産能力市場シェア（2025年対2032年）
図14. 地域別世界半導体リソグラフィ装置生産市場シェアおよび予測（2021-2032年）
図15. 半導体リソグラフィ装置の産業チェーン
図16. 半導体リソグラフィ装置の調達モデル
図17. 半導体リソグラフィ装置の販売モデル
図18. 半導体リソグラフィ装置の販売チャネル、直接販売、および流通
図19. EUVリソグラフィシステム
図20. ArFiリソグラフィシステム
図21. ArFドライリソグラフィシステム
図22. KrFリソグラフィシステム
図23. I線リソグラフィシステム
図24. 露光光源別、世界の半導体リソグラフィ装置消費額、2021-2032年、百万米ドル
図25. 露光光源別、世界の半導体リソグラフィ装置消費額市場シェア、2021-2032年
図26. 露光光源別、世界の半導体リソグラフィ装置販売数量、2021-2032年、（台）
図27. 露光方式別、世界の半導体リソグラフィ装置販売台数市場シェア、2021-2032年
図28. 露光方式別、世界の半導体リソグラフィ装置平均販売価格（ASP）、2021-2032年、（百万米ドル／台）
図29. 新規リソグラフィシステム
図30. リファブリッシュ／中古リソグラフィシステム
図31. 流通状況別、世界の半導体リソグラフィ装置消費額、2021-2032年、百万米ドル
図32. 流通状況別、世界の半導体リソグラフィ装置消費額市場シェア、2021-2032年
図33. 流通状況別、世界の半導体リソグラフィ装置販売数量、2021-2032年、（台）
図34. 流通状況別、世界の半導体リソグラフィ装置販売数量市場シェア、2021-2032年
図35. 流通状況別、世界の半導体リソグラフィ装置平均販売価格（ASP）、2021-2032年、（百万米ドル/台）
図36. フロントエンド・リソグラフィシステム
図37. アドバンスト・パッケージング・リソグラフィシステム
図38. 用途別、世界の半導体リソグラフィ装置消費額、2021-2032年、百万米ドル
図39. 用途別、世界の半導体リソグラフィ装置消費額市場シェア、2021-2032年
図40. 用途別、世界の半導体リソグラフィ装置販売数量、2021-2032年、（台）
図41. 用途別、世界の半導体リソグラフィ装置販売数量市場シェア、2021-2032年
図42. 用途別、世界の半導体リソグラフィ装置平均販売価格（ASP）、2021-2032年、（百万米ドル／台）
図43. ロジック
図44. メモリ
図45. その他
図46. プロセス別、世界の半導体リソグラフィ装置消費額、2021-2032年、百万米ドル
図47. プロセス別、世界の半導体リソグラフィ装置売上高市場シェア、2021-2032年
図48. プロセス別、世界の半導体リソグラフィ装置販売数量、2021-2032年、（台）
図49. プロセス別、世界の半導体リソグラフィ装置販売数量市場シェア、2021-2032年
図50. プロセス別、世界の半導体リソグラフィ装置価格、2021-2032年、（百万米ドル/台）
図51. 地域別、世界の半導体リソグラフィ装置消費額市場シェア、2021-2032年
図52. 地域別、世界の半導体リソグラフィ装置販売数量市場シェア、2021-2032年
図53. 北米における半導体リソグラフィ装置消費額および予測、2021-2032年、百万米ドル
図54. 国別、北米における半導体リソグラフィ装置消費額市場シェア、2025年
図55. 欧州の半導体リソグラフィ装置消費額および予測（2021-2032年、百万米ドル）
図56. 国別、欧州の半導体リソグラフィ装置消費額市場シェア（2025年）
図57. アジア太平洋地域の半導体リソグラフィ装置消費額および予測（2021-2032年、百万米ドル）
図58. 国・地域別、アジア太平洋地域の半導体リソグラフィ装置消費額市場シェア、2025年
図59. 南米地域の半導体リソグラフィ装置消費額および予測、2021-2032年、百万米ドル
図60. 国別、南米地域の半導体リソグラフィ装置消費額市場シェア、2025年
図61. 中東・アフリカの半導体リソグラフィ装置消費額および予測、2021-2032年、百万米ドル
図62. 米国の半導体リソグラフィ装置販売数量、2021-2032年、（台数）
図63. 露光光源別、米国の半導体リソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
図64. プロセス別、米国半導体リソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
図65. 欧州半導体リソグラフィ装置販売数量、2021-2032年、（台数）
図66. 露光光源別、欧州半導体リソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
図67. プロセス別、欧州半導体リソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
図68. 中国半導体リソグラフィ装置販売数量、2021-2032年（台数）
図69. 露光光源別、中国半導体リソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
図70. プロセス別、中国半導体露光装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
図71. 日本の半導体露光装置販売数量、2021-2032年（台数）
図72. 露光光源別、日本の半導体露光装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
図73. プロセス別、日本の半導体露光装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
図74. 韓国の半導体露光装置販売数量、2021-2032年（台数）
図75. 露光光源別、韓国の半導体露光装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
図76. プロセス別、韓国における半導体リソグラフィ装置販売数量の市場シェア（2025年対2032年）
図77. 東南アジアにおける半導体リソグラフィ装置販売数量（2021年～2032年、台数）
図78. 露光光源別、東南アジアの半導体リソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
図79. プロセス別、東南アジアの半導体リソグラフィ装置販売数量市場シェア、2025年対2032年
図80. インドの半導体リソグラフィ装置販売台数、2021-2032年（台）
図81. 露光光源別、インドの半導体リソグラフィ装置販売台数市場シェア、2025年対2032年
図82. プロセス別、インドの半導体リソグラフィ装置販売台数市場シェア、2025年対2032年
図83. 中東・アフリカの半導体リソグラフィ装置販売台数、2021年～2032年（台）
図84. 露光光源別、中東・アフリカの半導体リソグラフィ装置販売台数市場シェア、2025年対2032年
図85. プロセス別、中東・アフリカ地域の半導体リソグラフィ装置販売数量の市場シェア（2025年対2032年）
図86. 調査方法論
図87. 一次インタビューの内訳
図88. ボトムアップアプローチ
図89. トップダウンアプローチ

※参考情報

半導体リソグラフィ装置は、半導体製造プロセスにおいて基板上に微細なパターンを転写するための機械です。このリソグラフィプロセスは、半導体デバイスの製造において最も重要な工程の一つであり、トランジスタや回路パターンを形成するために使用されます。
リソグラフィ装置にはいくつかの種類があります。主な種類としては、紫外線リソグラフィ（UVリソグラフィ）、極紫外線リソグラフィ（EUVリソグラフィ）、および電子ビームリソグラフィ（EBリソグラフィ）があります。UVリソグラフィは、最も広く使用されている技術であり、350nmから450nmの波長の光を用いて感光性樹脂にパターンを転写します。EUVリソグラフィは、13.5nmの波長を使用することで、より微細なパターンの形成を可能にし、トランジスタの集積度を高めるために重要です。EBリソグラフィは、電子ビームを使用してパターンを形成し、主に試作や研究用の高精度な描画が必要な場面で利用されます。

半導体リソグラフィ装置は、多様な用途があります。最も一般的には、集積回路（IC）の製造に使用されます。これには、プロセッサ、メモリ、ASIC（アプリケーション特化型集積回路）など、さまざまな種類のデジタルおよびアナログデバイスが含まれます。また、パワーエレクトロニクスやセンサー技術などの特殊なデバイスの製造にも用いられます。

リソグラフィ装置の性能は、解像度、スループット、コスト、安定性などによって評価されます。解像度は、装置が形成できる最小のパターンのサイズであり、これは光の波長に依存します。スループットは、装置が単位時間あたりに処理できるウェハーの枚数を示し、生産効率に直結します。コストは、装置の購入価格や運用コストに関連しており、効率的な運用が求められます。また、安定性は、長期間にわたって高精度を維持できるかどうかを示しています。

リソグラフィ技術の進展には、多くの関連技術があります。一つは、感光材（フォトレジスト）の開発です。これにより、より高精度なパターン形成が可能になります。また、マスク技術も重要であり、パターン転写のためのマスクは精密に作成される必要があります。さらに、エッチングや成膜技術もリソグラフィプロセスに密接に関連し、パターン形成後の後工程でデバイスが完成するための不可欠な過程です。

最近のトレンドとしては、マルチパターン技術や自動化が挙げられます。マルチパターン技術は、限られた解像度のもとでより複雑なパターンを形成するために、複数の露光プロセスを使用します。これにより、EUV技術が普及するまでの間、微細化を進める手段として重要です。自動化は、製造工程の効率を高め、人的ミスを減少させるために進められています。

このように、半導体リソグラフィ装置は、半導体製造において不可欠な役割を果たしており、その進化はデバイスの性能や機能に直接影響を与えています。市場の要求に応じて、新しい技術やプロセスの開発が進められている中で、リソグラフィ技術の革新はこれからも続いていくでしょう。半導体業界における競争が激化する中、常に高性能で高効率なリソグラフィ装置の開発が求められるのです。

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半導体リソグラフィ装置の世界及び日本市場2026年：露光源別（EUVリソグラフィシステム、ArFiリソグラフィシステム、ArFドライリソグラフィシステム、KrFリソグラフィシステム、I線リソグラフィシステム）

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